[實用新型]一種多晶硅還原爐及其進氣噴嘴有效
| 申請號： | 201922488525.5 | 申請日： | 2019-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN211366979U | 公開（公告）日： | 2020-08-28 |
| 發明（設計）人： | 余濤;周維維;楊鵬程;代曉濤 | 申請（專利權）人： | 四川永祥多晶硅有限公司 |
| 主分類號： | C01B33/035 | 分類號： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 張雪嬌 |
| 地址： | 614800 四川省*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 多晶 還原 及其 噴嘴 | ||
【權利要求書】：
1.一種進氣噴嘴，具有直筒型噴腔，其特征在于，還具有螺旋型噴腔，一部分氣體通過所述直筒型噴腔沿著直線軌跡噴入到爐筒內，一部分氣體通過所述螺旋型噴腔沿著螺旋軌跡噴入到爐筒內。
2.根據權利要求1所述的進氣噴嘴，其特征在于，所述螺旋型噴腔為多個。
3.根據權利要求2所述的進氣噴嘴，其特征在于，多個所述螺旋型噴腔圍繞所述直筒型噴腔設置。
4.根據權利要求3所述的進氣噴嘴，其特征在于，所述螺旋型噴腔為四個。
5.根據權利要求3所述的進氣噴嘴，其特征在于，多個所述螺旋型噴腔的開口朝向各不相同。
6.根據權利要求1所述的進氣噴嘴，其特征在于，所述進氣噴嘴鑄造成型。
7.根據權利要求1-6任意一項所述的進氣噴嘴，其特征在于，所述進氣噴嘴的材質為氮化硅。
8.一種多晶硅還原爐，包括爐筒、底盤以及設置在所述底盤上的進氣噴嘴，其特征在于，所述進氣噴嘴為如權利要求1-7任意一項所述的進氣噴嘴。
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