[實(shí)用新型]一種晶片清洗離心機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922450698.8 | 申請日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN212349692U | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳正;劉昭;周亮亮 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇國源激光智能裝備制造有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/10 | 分類號: | B08B3/10;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司: | 北京化育知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11833 | 代理人: | 尹均利 |
| 地址: | 223800 江蘇省宿遷市宿*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶片 清洗 離心機(jī) | ||
1.一種晶片清洗離心機(jī),其特征在于:包括設(shè)備底座(1),所述底座(1)上方設(shè)有機(jī)殼(2),所述機(jī)殼(2)分為殼身(21)與殼頂(22),所述殼身(21)連接所述殼頂(22)與所述底座(1),所述底座(1)表面設(shè)有截面為半圓的凹紋,所述凹紋內(nèi)設(shè)有支撐球(11),所述底座(1)下方設(shè)有驅(qū)動電機(jī)(12),所述驅(qū)動電機(jī)(12)聯(lián)動支撐軸(13),所述支撐軸(13)穿過所述底座(1),所述支撐軸(13)頂端設(shè)有清洗底盤(14),所述清洗底盤(14)貼合所述支撐球(11),所述清洗底盤(14)側(cè)面設(shè)有側(cè)板(15),所述側(cè)板(15)靠近所述清洗底盤(14)處設(shè)有出液管(16),所述殼身(21)設(shè)有疏水管(23)及進(jìn)水管(24),所述疏水管(23)通過軟管連接過濾裝置(3),所述過濾裝置(3)一端通過軟管連接所述疏水管(23),另一端通過軟管連接所述進(jìn)水管(24),所述殼身(21)與所述底座(1)固定連接,所述殼頂(22)底面設(shè)有凹槽,所述殼頂(22)通過所述凹槽卡合在所述殼身(21)上,所述殼頂(22)上設(shè)有熱風(fēng)機(jī)(25),所述熱風(fēng)機(jī)(25)設(shè)有若干風(fēng)道(26),所述風(fēng)道(26)穿過所述殼頂(22)與所述底座(1)水平垂直,所述風(fēng)道(26)末端位于所述側(cè)板(15)上方,所述熱風(fēng)機(jī)(25)與所述殼頂(22)間設(shè)有電機(jī)座(27),所述電機(jī)座(27)聯(lián)動電控伸縮桿(28),所述伸縮桿(28)穿過所述殼頂(22),所述伸縮桿(28)上設(shè)有支撐件(281),所述支撐件(281)末端設(shè)有清洗盒(282)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗離心機(jī),其特征在于:所述凹槽內(nèi)設(shè)有密封圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗離心機(jī),其特征在于:所述清洗盒(282)為鏤空網(wǎng)狀清洗盒。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗離心機(jī),其特征在于:所述風(fēng)道上設(shè)有若干出風(fēng)管口(261),所述出風(fēng)管口(261)均向所述伸縮桿軸心設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗離心機(jī),其特征在于:所述底座下方設(shè)有穩(wěn)定支架。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片清洗離心機(jī),其特征在于:所述電機(jī)座(27)上設(shè)有電控開關(guān),所述開關(guān)控制所述電控伸縮桿(28)。
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