[實用新型]一種襯底基板沉積面朝上放置的有機真空沉積系統有效
| 申請號： | 201922434762.3 | 申請日： | 2019-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN212025442U | 公開（公告）日： | 2020-11-27 |
| 發明（設計）人： | 王燕東;王文沖;遲力峰 | 申請（專利權）人： | 蘇州馳鳴納米技術有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/04 |
| 代理公司： | 宿遷市永泰睿博知識產權代理事務所(普通合伙) 32264 | 代理人： | 劉慧 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 襯底 沉積 朝上 放置 有機 真空 系統 | ||
1.一種襯底基板沉積面朝上放置的有機真空沉積系統，包括真空腔體(1)，其特征在于：所述真空腔體(1)的底部貫穿有樣品架(2)，所述樣品架(2)的表面與真空腔體(1)固定連接，所述樣品架(2)的頂部固定連接有襯底基板(3)，所述襯底基板(3)的頂部活動連接有薄膜沉積襯底(4)，所述薄膜沉積襯底(4)的頂部活動連接有遮擋板(5)。
2.根據權利要求1所述的一種襯底基板沉積面朝上放置的有機真空沉積系統，其特征在于：所述樣品架(2)的形狀為長方體，所述襯底基板(3)的形狀為長方體，且樣品架(2)底面的長度和寬度均小于襯底基板(3)的長度和寬度。
3.根據權利要求1所述的一種襯底基板沉積面朝上放置的有機真空沉積系統，其特征在于：所述薄膜沉積襯底(4)的加工面方向朝向上，且薄膜沉積襯底(4)在襯底基板(3)頂部表面內，所述薄膜沉積襯底(4)在重力的作用下直接放置在襯底基板(3)上，不需要固定。
4.根據權利要求1所述的一種襯底基板沉積面朝上放置的有機真空沉積系統，其特征在于：所述遮擋板(5)的形狀為長方體，且遮擋板(5)的長度和寬度均大于襯底基板(3)的長度和寬度。
5.根據權利要求1所述的一種襯底基板沉積面朝上放置的有機真空沉積系統，其特征在于：所述真空腔體(1)頂部的兩側均貫穿有蒸發源(6)，所述蒸發源(6)的表面與真空腔體(1)固定連接。
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