[實用新型]一種高均勻加料裝置有效
| 申請號： | 201922372625.1 | 申請日： | 2019-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN211946774U | 公開（公告）日： | 2020-11-17 |
| 發明（設計）人： | 李建新;孟繁艷;陳超;胡向平;沈義梅;聶順 | 申請（專利權）人： | 湖北新華光信息材料有限公司 |
| 主分類號： | C03B3/00 | 分類號： | C03B3/00 |
| 代理公司： | 襄陽嘉琛知識產權事務所 42217 | 代理人： | 嚴崇姚 |
| 地址： | 441057 *** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 均勻 加料 裝置 | ||
1.一種高均勻加料裝置，其特征在于：包括料槽（3）、堵盤（5）、振動桿（6）、和氣缸（10）；其中，所述料槽（3）設有篩孔（4），并與振動桿（6）固定連接；所述堵盤（5）與氣缸（10）連接；所述堵盤（5）位于料槽（3）底面外側，有伸出封堵篩孔（4）和縮回使篩孔（4）導通兩個工作位。
2.按照權利要求1所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的堵盤（5）通過堵盤連桿（7）與氣缸（10）的氣缸伸縮桿（8）聯接。
3.按照權利要求1或2所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的氣缸（10）通過氣缸固定桿（9）固定在振動桿（6）上。
4.按照權利要求1或2所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的料槽（3）由料槽側壁（2）和料槽底（1）組成；所述篩孔（4）在料槽底（1）上勻布。
5.按照權利要求1或2所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的料槽（3）是與漏料裝置下料口形狀一致的形狀，且形狀與熔化池或熔化坩堝等熔化器皿相同，但尺寸稍小。
6.按照權利要求1或2所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的堵盤（5）是圓形、橢圓形或半圓形。
7.按照權利要求4所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的料槽側壁（2）的內側壁、料槽底（1）表面及篩孔（4）內側面、堵盤上表面為滿足粗糙度要求的光滑表面。
8.按照權利要求1或2所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的振動桿（6）可與帶振動頻率可調的振動裝置和電機連接。
9.按照權利要求5所述的一種高均勻加料裝置，其特征在于：所述的料槽（3）是圓形。
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