[實用新型]成膜裝置

有效

• 申請號: 201922370400.2
• 申請日: 2019-12-24
• 公開（公告）號: CN211771524U
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 山根徹;小川雄太
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/50
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張寶榮

本實用新型提供一種成膜裝置，該成膜裝置通過磁鐵吸附掩模而將掩模固定在基板上，經由所述掩模對所述基板進行成膜，其特征在于，所述成膜裝置具備磁力施加機構，所述磁力施加機構包括：磁軛板；磁鐵，所述磁鐵安裝在所述磁軛板的朝向蒸發源側的第一面上，用于隔著所述基板對掩模施加磁力；框架，所述框架設置在所述磁軛板的與所述第一面相反一側的第二面上，在所述框架設置有用于調整所述磁軛板相對于所述基板的傾斜的傾斜調整機構。

技術領域

本實用新型涉及一種成膜裝置，尤其涉及一種成本低廉且能夠容易調整磁軛板傾斜的成膜裝置。

背景技術

最近，作為平板顯示裝置，有機EL顯示裝置備受關注。有機 EL顯示裝置的元件具備在兩個相向的電極(陰極、陽極)之間形成有產生發光的有機物層的基本構造。有機EL顯示裝置元件的有機物層以及電極層以下述方式形成：使通過對設置在成膜裝置的腔室的下部的蒸鍍源進行加熱而蒸發的蒸鍍材料通過形成有像素圖案的掩模而蒸鍍于在腔室上部放置的基板的下表面。

在這樣的朝上蒸鍍方式的成膜裝置的腔室內，基板由基板保持架保持，在基板的上部設置有靜電卡盤，通過向靜電卡盤施加電壓而使基板的上表面吸附于靜電卡盤。通過使被靜電卡盤吸附的基板相對于掩模在水平方向上相對移動，從而進行對基板和掩模的相對位置進行調節的對準工序。

在將進行了上述對準的基板載置于掩模的上表面的狀態下，使磁板從基板的上部下降并使磁板隔著靜電卡盤與基板的上表面抵接。在磁板通過隔著基板向掩模施加磁力而使基板和掩模緊貼之前，利用使磁板等在水平方向上移動的對準臺對磁板與掩模之間的水平相對位置進行調節。但是，該調節僅是對磁板與掩模在水平方向上的相對位置進行調節，沒有考慮磁板相對于基板或掩模的傾斜問題。

近年來，隨著有機EL顯示裝置的大面積化，基板、掩模以及用于向掩模施加磁力的磁板的面積也變大。這就導致安裝磁板的磁軛板容易產生彎曲起伏等自身的變形。為了使磁板能夠均勻地向掩模施加磁力，獲得良好的基板與掩模之間的緊貼精度，需要使磁板整面平整且相對于基板平行，因此，用于安裝磁板的磁軛板也必須整面平整且平行于基板。

為了解決這一問題，提出有如下方案：在磁軛板的安裝磁鐵的一側的相反側設置安裝板以用于安裝磁軛板，在安裝板的上方設置肋結構來加強安裝板的強度，在安裝板和磁軛板分別設置對應的螺釘孔，通過螺釘將二者彼此固定。另外，在安裝板與磁軛板之間還設置有磁軛板傾斜調節螺釘。在安裝板設有用于安裝該磁軛板傾斜調節螺釘的螺紋孔。將螺釘擰入安裝板的螺紋孔并突出抵接于磁軛板，由此調節磁軛板與安裝板之間的間隙，進而調節磁軛板相對于基板的傾斜。

通過上述設置，能夠以安裝板與肋的剛性為基準，通過磁軛板傾斜調節螺釘來修正磁軛板的傾斜以及彎曲起伏等。

但是，由于設置有固定螺釘，因此設置固定螺釘處的磁軛板與安裝板之間的間隙無法調整，因此，利用該結構調節磁軛板的傾斜和彎曲起伏的效果有限。

實用新型內容

本實用新型是為解決上述課題而作出的，其主要目的在于提供一種成本低廉且能夠容易調整磁軛板傾斜的成膜裝置。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：

一種成膜裝置，所述成膜裝置通過磁鐵吸附掩模而將掩模固定在基板上，經由所述掩模對所述基板進行成膜，其特征在于，

所述成膜裝置具備磁力施加機構，所述磁力施加機構包括：

磁軛板；

磁鐵，所述磁鐵安裝在所述磁軛板的朝向蒸發源側的第一面上，用于隔著所述基板對掩模施加磁力；

框架，所述框架設置在所述磁軛板的與所述第一面相反一側的第二面上，并設有用于調整所述磁軛板相對于所述基板的傾斜的傾斜調整機構。

優選的是，所述框架包括多個相連的肋部。