[實用新型]一種干法等離子刻蝕機電極

有效

• 申請號: 201922363086.5
• 申請日: 2019-12-25
• 公開（公告）號: CN210897192U
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 馬東;李曉玲
• 申請（專利權）人: 無錫小迪電子科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 無錫派爾特知識產權代理事務所(普通合伙) 32340
• 代理人: 楊立秋

本實用新型涉及等離子刻蝕機電極技術領域，具體涉及一種干法等離子刻蝕機電極，包括用于與刻蝕腔的底部固定連接的吸氣管，吸氣管的上端設有下電極托盤，下電極托盤的頂部均勻開設有放置槽，本實用新型提供了一種干法等離子刻蝕機電極，通過一系列結構的設計和使用，本實用新型在進行使用過程中，達到了結構合理、操作便捷、功能多樣的優點，在使用泵的保護裝置時提高了對泵本體進行定位固定安裝的效果，而且同時可以達到對泵本體進行減震、降噪和散熱的目的，進而提高了泵的保護裝置的使用效率，進而提高了泵的保護裝置的實用性。

技術領域

本實用新型涉及等離子刻蝕機電極技術領域，具體涉及一種干法等離子刻蝕機電極。

背景技術

刻蝕是半導體制造工藝、微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的工藝步驟，是與光刻相聯系的圖形化(pattern) 處理的一種主要工藝。所謂刻蝕，實際上狹義理解就是光刻腐蝕，先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理，然后通過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。隨著微制造工藝的發展；廣義上來講，刻蝕成了通過溶液、反應離子或其它機械方式來剝離、去除材料的一種統稱，成為微加工制造的一種普適叫法?？涛g最簡單最常用分類是干法刻蝕和濕法刻蝕。干法刻蝕種類很多，包括光揮發、氣相腐蝕、等離子體腐蝕等。其優點是：各向異性好，選擇比高，可控性、靈活性、重復性好，易實現自動化，無化學廢液，處理過程未引入污染，潔凈度高。缺點是：成本高，設備復雜。干法刻蝕主要形式有純化學過程(如屏蔽式，下游式，桶式)，純物理過程(如離子銑)，物理化學過程，常用的有反應離子刻蝕RIE，離子束輔助自由基刻蝕ICP等。下電極不僅是刻蝕系統刻蝕基片的支撐，而且為刻蝕腔中等離子體系統通過下偏壓，使等離子體下基片加速運動從而對基片進行物理轟擊，與化學腐蝕配套進行刻蝕。

在涉及干法等離子刻蝕機電極進行使用時，然而現有的干法等離子刻蝕機電極的下電極存在諸多問題，不僅電極拖盤只能放置一片晶片，導致刻蝕系統只能進行單片刻蝕，不利于規?；a，同時為了得到較好的刻蝕結果，需要采用氣體冷卻的方法對單片基片進行冷卻，冷卻氣流很容易將晶片吹起偏離原有位置，缺乏可以達到對晶片進行很好的定位的目的，進而降低了干法等離子刻蝕機電極的使用效率，進而降低了干法等離子刻蝕機電極的實用性，因此亟需研發一種干法等離子刻蝕機電極來解決上述問題。

實用新型內容

針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種干法等離子刻蝕機電極，通過一系列結構的設計和使用，本實用新型在進行使用過程中，達到了結構合理、操作便捷、功能多樣的優點，在使用泵的保護裝置時提高了對泵本體進行定位固定安裝的效果，而且同時可以達到對泵本體進行減震、降噪和散熱的目的，進而提高了泵的保護裝置的使用效率，進而提高了泵的保護裝置的實用性；而且本實用新型結構新穎，設計科學合理，使用方便，具有較強的實用性。

本實用新型通過以下技術方案予以實現：

一種干法等離子刻蝕機電極，包括用于與刻蝕腔的底部固定連接的吸氣管，所述吸氣管的上端設有下電極托盤，所述下電極托盤的頂部均勻開設有放置槽，所述放置槽的底部中部固定插接有吸嘴，所述吸嘴的頂部與所述放置槽的底部位于同一水平位置處，所述吸嘴的底部連通有通管，所述下電極托盤的內部開設有真空腔，且所述通管的下端與所述真空腔相連通，所述真空腔的底部固定插接連通有所述吸氣管，位于刻蝕腔外部的所述吸氣管的下端前側端由上至下依次設有氣壓表、進氣管和第一電磁閥，所述進氣管上設有第二電磁閥，所述吸氣管的底端與真空泵的輸入端相連通。

優選的，所述下電極托盤呈矩形結構設置。

優選的，所述放置槽呈圓形結構設置。

優選的，所述吸嘴為耐高溫耐腐蝕吸嘴。

優選的，所述真空泵、所述第一電磁閥、所述第二電磁閥和所述氣壓表分別與刻蝕機控制端的控制器電性相連。

本實用新型的有益效果為：