[實用新型]晶圓濕制程設備用烘干槽裝置

有效

• 申請號: 201922317686.8
• 申請日: 2019-12-22
• 公開（公告）號: CN212320234U
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 王振榮;劉紅兵;朱雄;盧鵬
• 申請（專利權）人: 上海新陽半導體材料股份有限公司
• 主分類號: F26B9/06
• 分類號: F26B9/06;F26B21/00;F26B25/18
• 代理公司: 上海脫穎律師事務所 31259
• 代理人: 李強

1.一種晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，包括槽殼體，所述槽殼體的內部設有供放置晶圓的內腔，所述槽殼體上安裝有噴氣管路，所述噴氣管路伸入所述內腔以供向所述晶圓吹氣，所述內腔的底部設有烘熱底層，所述晶圓設置于所述烘熱底層的上方。

2.根據權利要求1所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述噴氣管路包括上噴管以及下噴管，所述上噴管由所述槽殼體的上部伸入所述內腔內進而向所述晶圓的上部吹氣，所述下噴管由所述槽殼體的中部伸入所述內腔內進而向所述晶圓的下部吹氣。

3.根據權利要求2所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述上噴管通過機械臂結構可調節作動地安裝于所述槽殼體的外部，所述槽殼體的上部開設有上開口，所述上噴管由所述上開口伸入所述內腔進而向所述晶圓吹空氣。

4.根據權利要求3所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述機械臂結構包括氣泵以及連桿段，所述上噴管的一端設有轉接通氣管以供外接空氣，所述連桿段通過擺動夾頭夾住所述轉接通氣管，進而通過所述氣泵驅動所述上噴管擺動進出于所述上開口。

5.根據權利要求4所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述上噴管的長度方向上均勻分布有多個向下噴氣的噴孔。

6.根據權利要求2所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述槽殼體的中部開設有側開口，所述下噴管由所述側開口伸入所述內腔并外接熱氣，所述下噴管的長度方向上均勻分布有多個向上噴氣的噴孔。

7.根據權利要求1所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述槽殼體包括相間隔的內殼層以及外殼層，所述內殼層的底部與所述外殼層導通，所述烘熱底層設于所述內殼層的底部并與所述外殼層隔斷，所述內殼層以及所述外殼層的底部設有外接的烘熱管，所述烘熱管與所述烘熱底層連通以用于供熱，進而，通過所述烘熱底層封閉所述內腔的底部以供由下而上烘干所述晶圓。

8.根據權利要求7所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述內殼層的底部一側壁開設有導通口進而與所述外殼層導通，所述內殼層的底面與所述外殼層導通并設有向上傾斜的彎折板，所述彎折板向上傾斜的上端封閉連接于所述導通口的上沿，所述彎折板的上端設有水平烘板，通過所述彎折板配合所述水平烘板圍合形成所述烘熱底層。

9.根據權利要求8所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述水平烘板上均勻分布有多個烘熱孔，所述水平烘板與所述彎折板之間設有斜撐板，所述斜撐板上設有板導口，所述外殼層的底面上設有與外界連通的放熱管，所述放熱管穿過所述內殼層的底面進而與所述烘熱底層連通。

10.根據權利要求7所述的晶圓濕制程設備用烘干槽裝置，其特征在于，所述內殼層與所述外殼層的側壁之間設有加強槽筋。