[實用新型]一種等離子刻蝕機的勻氣盤

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922270966.8
• 申請日: 2019-12-17
• 公開（公告）號: CN211350570U
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發(fā)明（設計）人: 王成杰
• 申請（專利權）人: 蘇州合志杰新材料技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種等離子刻蝕機的勻氣盤，包括底盤，底盤上安裝側(cè)環(huán)，側(cè)環(huán)頂部安裝頂板，頂板上開有進氣口，進氣口底部安裝分氣盒，分氣盒的內(nèi)腔底部設有分散塊，分散塊上開有多個底通孔，分氣盒的側(cè)壁開有多個側(cè)通孔，側(cè)環(huán)的內(nèi)壁安裝穩(wěn)壓氣囊，底盤上開有多個出氣口，出氣口內(nèi)安裝有流量調(diào)節(jié)機構。壓縮氣體通過進氣口進入分氣盒后，氣體沖擊在分散塊上進行分散，通過側(cè)通孔和底通孔均勻吹向底盤，壓縮氣體初步均勻分散后通過出氣口噴出，流量調(diào)節(jié)機構根據(jù)氣體流量進行調(diào)節(jié)，使得出氣口內(nèi)的流量趨于平衡，便于氣體均勻噴出，穩(wěn)壓氣囊內(nèi)具有恒定壓縮氣體產(chǎn)生壓強，進氣壓強產(chǎn)生波動時，穩(wěn)壓氣囊對其進行穩(wěn)壓，確保刻蝕氣體的噴出速率穩(wěn)定。

技術領域

本實用新型涉及等離子刻蝕技術領域，具體為一種等離子刻蝕機的勻氣盤。

背景技術

等離子刻蝕時，進氣結構，一般采用進氣管直接通入反應腔室，由于進氣管和腔室尺寸的差別比較大，進氣后，氣體的壓力和流量梯度較大，這樣，在射頻加載后，啟輝得到的等離子體均勻一致性難以保證，腔室內(nèi)部水平方向氣體分布梯度較大，導致等離子體在工件表面的密度分布不均勻，造成刻蝕速率的均勻性不一致，且又是進氣的壓縮氣體壓力會產(chǎn)生波動，導致等離子噴射速率波動的瞬間變化較大，也不利于均勻刻蝕，為此我們提出一種等離子刻蝕機的勻氣盤用于解決上述問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種等離子刻蝕機的勻氣盤，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種等離子刻蝕機的勻氣盤，包括底盤，所述底盤上固定安裝側(cè)環(huán)，所述側(cè)環(huán)頂部固定安裝頂板，所述頂板上開有進氣口，所述進氣口外側(cè)的頂板底部固定安裝分氣盒，所述分氣盒的內(nèi)腔底部一體成型設有分散塊，所述分散塊和分氣盒底部開有多個貫穿的底通孔，所述分氣盒的側(cè)壁底部開有多個側(cè)通孔，所述側(cè)環(huán)的內(nèi)壁固定安裝穩(wěn)壓氣囊，所述穩(wěn)壓氣囊和側(cè)環(huán)外壁間套接氣管，所述底盤上開有多個出氣口，所述出氣口內(nèi)安裝有流量調(diào)節(jié)機構。

優(yōu)選的，所述分散塊為圓錐狀結構，所述側(cè)通孔為傾斜向下結構，且側(cè)通孔沿分氣盒圓周方向均勻分布，所述底通孔沿分散塊圓周外壁均勻分布，且底通孔與分氣盒底部夾角沿分散塊中心向邊緣方向逐漸減小。

優(yōu)選的，所述穩(wěn)壓氣囊為彈性橡膠結構，所述氣管貫穿等離子刻蝕設備并安裝有閥門。

優(yōu)選的，所述出氣口沿底盤的圓周方向均勻分布，且出氣口的數(shù)量從底盤的中心到邊緣逐漸遞增，所述流量調(diào)節(jié)機構包括收納槽，所述出氣口的內(nèi)壁頂部開有收納槽，所述收納槽內(nèi)滑動卡接擋板，所述擋板和收納槽遠離出氣口的一端分別固定連接彈簧的兩端，所述擋板靠近出氣口的頂部固定安裝有導流塊，所述出氣口內(nèi)壁滑動卡接滑動框，所述滑動框內(nèi)壁間固定安裝有透氣網(wǎng)，所述滑動框和收納槽間的出氣口內(nèi)壁上固定安裝導向環(huán)，所述滑動框的頂部外壁上固定連接拉繩的一端，所述拉繩的另一端穿過導向環(huán)并固定連接擋板的端面。

優(yōu)選的，所述彈簧始終處于拉伸狀態(tài)，所述擋板沿出氣口圓周方向均勻分布有四個，所述導流塊為錐形環(huán)狀結構，所述拉繩兩端的擋板和滑動框的連接點位于出氣口的直徑兩端。

優(yōu)選的，所述出氣口內(nèi)壁開有限位槽，所述滑動框的外壁固定安裝限位塊，所述限位塊均位于滑動框與拉繩的連接點下方，所述限位槽的高度小于出氣口的半徑。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是：壓縮氣體進入分氣盒后，氣體沖擊在分散塊上進行分散，從而通過側(cè)通孔和底通孔進行分散，便于壓縮氣體均勻吹向底盤；氣體通過出氣口時，流量調(diào)節(jié)機構根據(jù)氣體流量進行自我調(diào)節(jié)，使得每個出氣口內(nèi)的流量趨于平衡，便于氣體均勻噴出，便于均勻刻蝕；穩(wěn)壓氣囊內(nèi)通過氣管充入壓縮氣體使其壓強恒定，在刻蝕氣體壓力產(chǎn)生波動時，穩(wěn)壓氣囊對其進行穩(wěn)壓，從而減小氣體噴出速率波動，便于均勻刻蝕。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖；

圖2為本實用新型主視剖面結構示意圖；