[實用新型]一種等離子刻蝕機的勻氣盤

有效

• 申請號: 201922270966.8
• 申請日: 2019-12-17
• 公開（公告）號: CN211350570U
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 王成杰
• 申請（專利權）人: 蘇州合志杰新材料技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種等離子刻蝕機的勻氣盤，包括底盤（1），其特征在于：所述底盤（1）上固定安裝側環（2），所述側環（2）頂部固定安裝頂板（3），所述頂板（3）上開有進氣口（4），所述進氣口（4）外側的頂板（3）底部固定安裝分氣盒（5），所述分氣盒（5）的內腔底部一體成型設有分散塊（9），所述分散塊（9）和分氣盒（5）底部開有多個貫穿的底通孔（11），所述分氣盒（5）的側壁底部開有多個側通孔（10），所述側環（2）的內壁固定安裝穩壓氣囊（6），所述穩壓氣囊（6）和側環（2）外壁間套接氣管（12），所述底盤（1）上開有多個出氣口（7），所述出氣口（7）內安裝有流量調節機構（8）。

2.根據權利要求1所述的一種等離子刻蝕機的勻氣盤，其特征在于：所述分散塊（9）為圓錐狀結構，所述側通孔（10）為傾斜向下結構，且側通孔（10）沿分氣盒（5）圓周方向均勻分布，所述底通孔（11）沿分散塊（9）圓周外壁均勻分布，且底通孔（11）與分氣盒（5）底部夾角沿分散塊（9）中心向邊緣方向逐漸減小。

3.根據權利要求1所述的一種等離子刻蝕機的勻氣盤，其特征在于：所述穩壓氣囊（6）為彈性橡膠結構，所述氣管（12）貫穿等離子刻蝕設備并安裝有閥門。

4.根據權利要求1所述的一種等離子刻蝕機的勻氣盤，其特征在于：所述出氣口（7）沿底盤（1）的圓周方向均勻分布，且出氣口（7）的數量從底盤（1）的中心到邊緣逐漸遞增，所述流量調節機構（8）包括收納槽（83），所述出氣口（7）的內壁頂部開有收納槽（83），所述收納槽（83）內滑動卡接擋板（82），所述擋板（82）和收納槽（83）遠離出氣口（7）的一端分別固定連接彈簧（84）的兩端，所述擋板（82）靠近出氣口（7）的頂部固定安裝有導流塊（81），所述出氣口（7）內壁滑動卡接滑動框（87），所述滑動框（87）內壁間固定安裝有透氣網（88），所述滑動框（87）和收納槽（83）間的出氣口（7）內壁上固定安裝導向環（86），所述滑動框（87）的頂部外壁上固定連接拉繩（85）的一端，所述拉繩（85）的另一端穿過導向環（86）并固定連接擋板（82）的端面。

5.根據權利要求4所述的一種等離子刻蝕機的勻氣盤，其特征在于：所述彈簧（84）始終處于拉伸狀態，所述擋板（82）沿出氣口（7）圓周方向均勻分布有四個，所述導流塊（81）為錐形環狀結構，所述拉繩（85）兩端的擋板（82）和滑動框（87）的連接點位于出氣口（7）的直徑兩端。

6.根據權利要求4所述的一種等離子刻蝕機的勻氣盤，其特征在于：所述出氣口（7）內壁開有限位槽（13），所述滑動框（87）的外壁固定安裝限位塊（14），所述限位塊（14）均位于滑動框（87）與拉繩（85）的連接點下方，所述限位槽（13）的高度小于出氣口（7）的半徑。