[實用新型]浸潤式光阻涂布裝置

有效

• 申請號: 201922183973.4
• 申請日: 2019-12-09
• 公開（公告）號: CN211180528U
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 林劉恭
• 申請（專利權）人: 光群雷射科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 韓嫚嫚;趙燕力

本實用新型有關于一種浸潤式光阻涂布裝置，用于將一全像圖圖案轉移至一飾材，浸潤式光阻涂布裝置包括：一基座、裝有光阻材料的一容器及一圓柱形滾輪。基座具有一第一致動構件；圓柱形滾輪設置于一輪軸上，并與第一致動構件電性連接。其中第一致動構件能使圓柱形滾輪與容器產生一相對位移，且在光阻材料以浸潤式涂布于圓柱形滾輪后的狀態下，第一致動構件能于容器中或容器外旋轉圓柱形滾輪，以將光阻材料均勻涂布至圓柱形滾輪上。本實用新型的浸潤式光阻涂布裝置，可使光阻材料涂布地更均勻且縮短制作時間。

技術領域

本實用新型有關一種光阻涂布裝置，尤其是關于一種用于將一全像圖圖案轉移至一飾材的浸潤式光阻涂布裝置。

背景技術

以往在制作全像圖圖案轉移時，請參考圖1至圖2，先于滾輪10上組裝薄片狀的全像版11，再將全像版11上的全像紋路圖案21轉移至材料20上，使材料20具有相對應的全像紋路圖案21。上述全像紋路圖案21的轉移方式，轉移后的材料20上兩個相鄰的全像紋路圖案21之間，會留下對應于全像板11的接縫12的間隙22。因此，轉移后的材料20在后續使用時，因為間隙22的存在而會造成材料20極大的浪費。一種改進的技術如圖3所示，利用制作光阻、顯影以將圖案轉移，其中當形成光阻層時，滾輪10傾斜設置，光阻材料利用滴涂(dripcoating)的方式慢慢涂布于滾輪10上，此種制作程序需耗費十幾個工作日，且涂布的均勻度不是非常好。

有鑒于上述現有結構的缺失，制造質量良好、符合成本效益又適合于全像圖圖案轉移的光阻涂布裝置便是目前極需努力的目標。

實用新型內容

本實用新型提供了一種浸潤式光阻涂布裝置，用于將一全像圖圖案轉移至一飾材，其結構整體設計的目的使光阻材料涂布地更均勻且縮短制作時間，進而提高產品品質。

本實用新型一實施例的一種浸潤式光阻涂布裝置用于將一全像圖圖案轉移至一飾材，所述光阻涂布裝置包括：一基座，具有一第一致動構件；容器，設置于所述基座上，所述容器用以盛裝一光阻材料；以及一圓柱形滾輪，設置于一輪軸上，所述輪軸與所述第一致動構件電性連接；其中，所述第一致動構件能使圓柱形滾輪與所述容器產生一相對位移；以及，在所述圓柱形滾輪置入所述容器內的狀態下，所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪上，所述第一致動構件能于所述容器中或所述容器外旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

優選的，其中，所述圓柱形滾輪為金屬材料制成的圓柱形滾輪。

優選的，其中，所述容器垂直設置于所述基座上。

優選的，其中，在所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪的狀態下，所述第一致動構件于所述容器外以一第一速度旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

優選的，其中，所述第一速度為100轉/分鐘至3000轉/分鐘。

優選的，其中，所述相對位移是指所述圓柱形滾輪向靠近所述容器的方向位移、所述容器向靠近所述圓柱形滾輪的方向位移或所述容器與所述圓柱形滾輪均向彼此靠近的方向位移。

優選的，其中，所述容器水平設置于所述基座上。

優選的，其中，在所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪的狀態下，所述第一致動構件以一第二速度于所述容器內旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

優選的，其中，所述第二速度為0轉/分鐘至100轉/分鐘。

優選的，其中，所述相對位移指所述圓柱形滾輪向靠近所述容器的方向位移、所述容器向靠近所述圓柱形滾輪的方向位移或所述容器與所述圓柱形滾輪均向彼此靠近的方向位移。

優選的，其中，在所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪的狀態下，所述第一致動構件以一第三速度于所述容器外旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。