[實用新型]浸潤式光阻涂布裝置

有效

• 申請號: 201922183973.4
• 申請日: 2019-12-09
• 公開（公告）號: CN211180528U
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 林劉恭
• 申請（專利權）人: 光群雷射科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 韓嫚嫚;趙燕力

1.一種浸潤式光阻涂布裝置，用于將一全像圖圖案轉移至一飾材，其特征在于，所述浸潤式光阻涂布裝置包括：

一基座，具有一第一致動構件；

一容器，設置于所述基座上，所述容器用以盛裝一光阻材料；以及

一圓柱形滾輪，設置于一輪軸上，所述輪軸與所述第一致動構件電性連接；

其中，所述第一致動構件能使所述圓柱形滾輪與所述容器產生一相對位移；以及

在所述圓柱形滾輪置入所述容器內的狀態下，所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪上，所述第一致動構件能于所述容器中或所述容器外旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

2.如權利要求1所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述圓柱形滾輪為金屬材料制成的圓柱形滾輪。

3.如權利要求1所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述容器垂直設置于所述基座上。

4.如權利要求3所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，在所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪的狀態下，所述第一致動構件于所述容器外以一第一速度旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

5.如權利要求4所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述第一速度為100轉/分鐘至3000轉/分鐘。

6.如權利要求3所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述相對位移是指所述圓柱形滾輪向靠近所述容器的方向位移、所述容器向靠近所述圓柱形滾輪的方向位移或所述容器與所述圓柱形滾輪均向彼此靠近的方向位移。

7.如權利要求1所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述容器水平設置于所述基座上。

8.如權利要求7所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，在所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪的狀態下，所述第一致動構件以一第二速度于所述容器內旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

9.如權利要求8所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述第二速度為0轉/分鐘至100轉/分鐘。

10.如權利要求7所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述相對位移是指所述圓柱形滾輪向靠近所述容器的方向位移、所述容器向靠近所述圓柱形滾輪的方向位移或所述容器與所述圓柱形滾輪均向彼此靠近的方向位移。

11.如權利要求7所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，在所述光阻材料以浸潤式涂布于所述圓柱形滾輪的狀態下，所述第一致動構件以一第三速度于所述容器外旋轉所述圓柱形滾輪，以將所述光阻材料均勻涂布至所述圓柱形滾輪上。

12.如權利要求11所述的浸潤式光阻涂布裝置，其特征在于，所述第三速度為100轉/分鐘至3000轉/分鐘。