[實用新型]一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922160701.2
• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN211005608U
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬毅;黃先偉;宋宇軒;俞越翎;謝續(xù)友;吳伊帆;張?zhí)┤A
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江工業(yè)大學
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 杭州浙科專利事務(wù)所(普通合伙) 33213
• 代理人: 周紅芳

本實用新型公開了一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，包括真空室主腔及真空室副腔，所述真空室主腔與真空室副腔之間中間腔室，所述中間腔室分別與真空室主腔與真空室副腔相連通，所述中間腔室內(nèi)部設(shè)有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌上配合設(shè)置導(dǎo)軌小車，所述導(dǎo)軌小車上設(shè)有基片儲備盤，所述基片儲備盤上沿其周向設(shè)有一組基片架，基片架上設(shè)有基片；所述導(dǎo)軌小車在導(dǎo)軌上水平移動，從而將基片架在真空室主腔與真空室副腔之間進行轉(zhuǎn)移，進而實現(xiàn)基片的轉(zhuǎn)移。本實用新型的有益效果是：通過設(shè)置中間腔室，并設(shè)置導(dǎo)軌及導(dǎo)軌小車，從而實現(xiàn)基片在真空室副腔和真空室主腔之間的快速高效轉(zhuǎn)移，節(jié)省成本，縮減真空室空間。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及真空加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置。

背景技術(shù)

磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種，一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

目前真空室副腔用來存放基片，通過真空機械手實現(xiàn)基片在真空室副腔和真空室主腔之間轉(zhuǎn)移，這種技術(shù)方案造價高昂，需要的空間大，然而真空室的空間十分寶貴。本實用新型旨在實現(xiàn)基片在真空室副腔和真空室主腔之間的快速高效轉(zhuǎn)移，節(jié)省成本，縮減真空室空間。

實用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，本實用新型的目的在于實現(xiàn)基片在真空室副腔和真空室主腔之間的快速高效轉(zhuǎn)移，節(jié)省成本，縮減真空室空間。

本實用新型技術(shù)方案如下:

一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，包括真空室主腔及真空室副腔，所述真空室主腔與真空室副腔之間中間腔室，所述中間腔室分別與真空室主腔與真空室副腔相連通，所述中間腔室內(nèi)部設(shè)有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌上配合設(shè)置導(dǎo)軌小車，所述導(dǎo)軌小車上設(shè)有基片儲備盤，所述基片儲備盤上沿其周向設(shè)有一組基片架，基片架上設(shè)有基片；所述導(dǎo)軌小車在導(dǎo)軌上水平移動，從而將基片架在真空室主腔與真空室副腔之間進行轉(zhuǎn)移，進而實現(xiàn)基片的轉(zhuǎn)移。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述真空室主腔內(nèi)設(shè)有基片盤，所述基片盤上沿其周向設(shè)有基片盤邊緣凸起，所述基片架的邊緣處有楔形凸起，且楔形凸起與基片盤邊緣凸起相配合，從而實現(xiàn)基片架的定位。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片架采用拱門型結(jié)構(gòu)，包括半圓形架體及設(shè)置在半圓形架體端部的長方形架體。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片架端部設(shè)有銷孔，所述基片架端部插接設(shè)置圓柱體托，且圓柱體托通過銷軸插接安裝在銷孔上，實現(xiàn)與基片架的鉸接，所述圓柱體托端部固定設(shè)置長方體托。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片儲備盤上設(shè)有固定端，所述長方體托與固定端插接配合。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述圓柱體托左右位置分別設(shè)有左彈簧及右彈簧，且左彈簧及右彈簧）一端連接于圓柱體托上，另一端連接于基片架上。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述中間腔室上設(shè)有插板閥，并通過插板閥將真空室主腔與真空室副腔之間進行分隔。

所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片儲備盤底部設(shè)有真空電機，所述真空電機與基片儲備盤傳動連接。

本實用新型的有益效果是：通過設(shè)置中間腔室，并設(shè)置導(dǎo)軌及導(dǎo)軌小車，從而實現(xiàn)基片在真空室副腔和真空室主腔之間的快速高效轉(zhuǎn)移，節(jié)省成本，縮減真空室空間。

附圖說明