[實用新型]一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置

有效

• 申請號: 201922160701.2
• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN211005608U
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 馬毅;黃先偉;宋宇軒;俞越翎;謝續友;吳伊帆;張泰華
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所(普通合伙) 33213
• 代理人: 周紅芳

1.一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，包括真空室主腔（101）及真空室副腔（102），所述真空室主腔（101）與真空室副腔（102）之間中間腔室，所述中間腔室分別與真空室主腔（101）與真空室副腔（102）相連通，所述中間腔室內部設有導軌（3），所述導軌（3）上配合設置導軌小車（7），所述導軌小車（7）上設有基片儲備盤（5），所述基片儲備盤（5）上沿其周向設有一組基片架（6），基片架（6）上設有基片（607）；所述導軌小車（7）在導軌（3）上水平移動，從而將基片架（6）在真空室主腔（101）與真空室副腔（102）之間進行轉移，進而實現基片（607）的轉移。

2.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述真空室主腔（101）內設有基片盤（2），所述基片盤（2）上沿其周向設有基片盤邊緣凸起（202），所述基片架（6）的邊緣處有楔形凸起，且楔形凸起與基片盤邊緣凸起（202）相配合，從而實現基片架（6）的定位。

3.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片架（6）采用拱門型結構，包括半圓形架體及設置在半圓形架體端部的長方形架體。

4.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片架（6）端部設有銷孔，所述基片架（6）端部插接設置圓柱體托（606），且圓柱體托（606）通過銷軸插接安裝在銷孔上，實現與基片架（6）的鉸接，所述圓柱體托（606）端部固定設置長方體托（602）。

5.所述根據權利要求4所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片儲備盤（5）上設有固定端（603），所述長方體托（602）與固定端（603）插接配合。

6.根據權利要求4所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述圓柱體托（606）左右位置分別設有左彈簧（605）及右彈簧（604），且左彈簧（605）及右彈簧（604）一端連接于圓柱體托（606）上，另一端連接于基片架（6）上。

7.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述中間腔室上設有插板閥（103），并通過插板閥（103）將真空室主腔（101）與真空室副腔（102）之間進行分隔。

8.根據權利要求1所述的一種磁控濺射鍍膜儀換樣裝置，其特征在于，所述基片儲備盤（5）底部設有真空電機（4），所述真空電機（4）與基片儲備盤（5）傳動連接。