[實用新型]一種管式PECVD凈化臺設備有效
| 申請號: | 201922122328.1 | 申請日: | 2019-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN210974869U | 公開(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發明(設計)人: | 周佑丞;張春成;李曄純;成秋云;吳得軼 | 申請(專利權)人: | 湖南紅太陽光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
| 地址: | 410205 湖南省*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 pecvd 凈化 設備 | ||
1.一種管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:包括主框架(1)、上下料系統、輸送滑臺(2)和緩存架(3),所述緩存架(3)設于主框架(1)內,且緩存架(3)包括多層用于存放石墨舟(4)的緩存位(31),所述主框架(1)對應每層緩存位(31)設有反應爐對接窗口(11),所述輸送滑臺(2)設于主框架(1)的底部用于輸送石墨舟(4)進出主框架(1),所述上下料系統包括三軸移動模組(5)和設于三軸移動模組(5)上的托舟機構(6),所述三軸移動模組(5)用于驅動托舟機構(6)與輸送滑臺(2)對接、用于驅動托舟機構(6)與各緩存位(31)對接以及用于驅動托舟機構(6)穿過反應爐對接窗口(11)進出對應的反應爐內。
2.根據權利要求1所述的管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:所述三軸移動模組(5)包括X軸移動模塊(51)、Y軸移動模塊(52)和Z軸移動模塊(53),所述Y軸移動模塊(52)設于Z軸移動模塊(53)的滑塊上,所述X軸移動模塊(51)設于Y軸移動模塊(52)的滑塊上,所述托舟機構(6)設于X軸移動模塊(51)的滑塊上。
3.根據權利要求2所述的管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:所述Z軸移動模塊(53)設置兩組,所述Y軸移動模塊(52)設置兩組,兩組Y軸移動模塊(52)分別設于兩組Z軸移動模塊(53)的滑塊上,所述X軸移動模塊(51)設于兩個Y軸移動模塊(52)的滑塊上。
4.根據權利要求2或3所述的管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:所述托舟機構(6)包括碳化硅桿(61)、支撐桿(62)和固定座(63),所述碳化硅桿(61)與支撐桿(62)連接,所述支撐桿(62)與固定座(63)連接,所述固定座(63)與X軸移動模塊(51)的滑塊連接,所述碳化硅桿(61)與支撐桿(62)均與X軸移動模塊(51)平行。
5.根據權利要求4所述的管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:所述固定座(63)設有兩個安裝孔(631),所述支撐桿(62)一端穿設于兩個安裝孔(631)內,所述支撐桿(62)位于安裝孔(631)內的表面設有多個調節塊(64),所述調節塊(64)上設有螺紋孔,所述固定座(63)上對應每個調節塊(64)設有調整螺栓(65),所述調整螺栓(65)伸入安裝孔(631)內與調節塊(64)的螺紋孔配合。
6.根據權利要求5所述的管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:所述調節塊(64)為楔塊。
7.根據權利要求4所述的管式PECVD凈化臺設備,其特征在于:所述碳化硅桿(61)與支撐桿(62)通過至少一個卡箍(66)連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





