[實用新型]玻璃基板的制造裝置有效
| 申請號: | 201922113113.3 | 申請日: | 2019-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN211045383U | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發明(設計)人: | 鑒繼薰;中塚弘樹;山本好晴 | 申請(專利權)人: | 日本電氣硝子株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 佟勝男 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 制造 裝置 | ||
本實用新型提供一種玻璃基板的制造裝置,該玻璃基板的制造裝置能夠防止塵埃附著于玻璃基板并制造具有高表面品質的玻璃基板。一種玻璃基板(G)的制造裝置(1),其對在上游被加工的玻璃基板(G)進行清洗并干燥,其中,所述玻璃基板(G)的制造裝置(1)具有:對玻璃基板(G)進行清洗的接觸清洗部(2);針對由接觸清洗部(2)進行了清洗的玻璃基板進行漂洗工序的沖洗部(3);以及對在沖洗部(3)中進行了漂洗的玻璃基板(G)進行干燥的干燥部(4),在干燥部(4)設置用于噴出潔凈空氣的清潔空氣導入單元(34)。
技術領域
本實用新型涉及玻璃基板的制造裝置的技術。
背景技術
以往,在制造液晶面板(LCD)、等離子體顯示板(PDP)、有機EL面板等的玻璃基板時,有時向玻璃基板的一面或兩面貼附保護膜。在向玻璃基板的表面貼附保護膜時,若表面上附著有塵埃,則保護膜可能會剝離。因此,在向玻璃基板貼附保護膜的工序之前的工序中,進行清洗玻璃基板的表面的工序的玻璃基板的制造裝置已被公知(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1的玻璃基板的制造裝置具備:清洗部,其一邊向玻璃基板的表面供給清洗液一邊進行清洗;沖洗部,其對在清洗部中進行了清洗的玻璃基板的表面進行漂洗;以及干燥部,其對在沖洗部中進行了漂洗的玻璃表面進行干燥。另外,在干燥部中,作為對玻璃表面進行干燥的干燥單元的一例,設置有氣刀。
在先技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2008-212862號公報
在專利文獻1中,在干燥部中使用氣刀進行干燥時,有時因由氣刀引起的氣流及從下游工序的成為正壓的無塵室輸送來的氣流而在干燥部內產生紊流,微少殘留的塵埃再次附著于清洗及漂洗后的玻璃基板的表面。因此,作為要求高品質的玻璃基板,希望防止塵埃再附著的玻璃基板的制造裝置。
實用新型內容
實用新型要解決的課題
本實用新型鑒于上述課題,提供能夠防止塵埃附著于玻璃基板并制造具有高表面品質的玻璃基板的玻璃基板的制造裝置。
用于解決課題的方案
本實用新型要解決的課題如上所述,以下說明用于解決該課題的方案。
即,本實用新型涉及一種玻璃基板的制造裝置,其對在上游被加工的玻璃基板進行清洗并干燥,所述玻璃基板的制造裝置的特征在于,具有:
接觸清洗部,其對玻璃基板進行清洗;沖洗部,其針對由所述接觸清洗部進行了清洗的玻璃基板進行漂洗工序;以及干燥部,其對在所述沖洗部中進行了漂洗的玻璃基板進行干燥,
在所述干燥部設置用于噴出潔凈空氣的清潔空氣導入單元。
在本實用新型中,在所述接觸清洗部、所述沖洗部及所述干燥部設置排氣單元。
在本實用新型中,在所述干燥部設置氣刀,
所述排氣單元的排氣口配置在所述氣刀指向的一側。
在本實用新型中,對所述玻璃基板進行搬運的搬運單元在與所述玻璃基板的搬運方向正交的寬度方向上傾斜,
在所述接觸清洗部及所述沖洗部中,所述排氣口配置在所述搬運單元的傾斜上側的下方。
在本實用新型中,所述排氣單元的排氣口進一步相對于所述氣刀配置在所述玻璃基板的搬運方向下游側。
在本實用新型中,所述清潔空氣導入單元配置在所述玻璃基板的搬運方向下游側。
在本實用新型中,對于所述排氣單元的排氣量而言,所述沖洗部中的排氣單元的排氣量比所述接觸清洗部中的排氣單元的排氣量多,且所述接觸清洗部中的排氣單元的排氣量比所述干燥部中的排氣單元的排氣量多。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





