[實用新型]玻璃基板的制造裝置有效
| 申請號: | 201922113113.3 | 申請日: | 2019-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN211045383U | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發明(設計)人: | 鑒繼薰;中塚弘樹;山本好晴 | 申請(專利權)人: | 日本電氣硝子株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 佟勝男 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 制造 裝置 | ||
1.一種玻璃基板的制造裝置,其對在上游被加工的玻璃基板進行清洗并干燥,
所述玻璃基板的制造裝置的特征在于,具有:
接觸清洗部,其對玻璃基板進行清洗;
沖洗部,其針對由所述接觸清洗部進行了清洗的玻璃基板進行漂洗工序;以及
干燥部,其對在所述沖洗部中進行了漂洗的玻璃基板進行干燥,
在所述干燥部設置用于噴出潔凈空氣的清潔空氣導入單元。
2.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
在所述接觸清洗部、所述沖洗部及所述干燥部設置排氣單元。
3.根據權利要求2所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
在所述干燥部設置氣刀,
所述排氣單元的排氣口配置在所述氣刀指向的一側。
4.根據權利要求2所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
對所述玻璃基板進行搬運的搬運單元在與所述玻璃基板的搬運方向正交的寬度方向上傾斜,
在所述接觸清洗部及所述沖洗部中,所述排氣單元的排氣口配置在所述搬運單元的傾斜上側的下方。
5.根據權利要求2所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
在所述干燥部設置氣刀,
所述排氣單元的排氣口進一步相對于所述氣刀配置在所述玻璃基板的搬運方向下游側。
6.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
所述清潔空氣導入單元配置在所述玻璃基板的搬運方向下游側。
7.根據權利要求2所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
對于所述排氣單元的排氣量而言,所述沖洗部中的排氣單元的排氣量比所述接觸清洗部中的排氣單元的排氣量多,且所述接觸清洗部中的排氣單元的排氣量比所述干燥部中的排氣單元的排氣量多。
8.根據權利要求2所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
所述接觸清洗部和所述沖洗部被劃分成區段,針對各所述區段設置排氣單元。
9.根據權利要求3所述的玻璃基板的制造裝置,其特征在于,
所述氣刀安裝于劃分所述干燥部的內部的分隔板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





