[實用新型]測量系統

有效

• 申請號: 201922021102.2
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN211291363U
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發明（設計）人: 埃拉·德多坦;莫舍·萬霍特斯克爾;希莫·亞洛夫;瓦萊里·戴希;羅伊·林格爾;本亞明·舒爾曼;紐希·巴爾·歐恩;沙哈爾·巴桑
• 申請（專利權）人: 諾威量測設備股份有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;G01N21/27;H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 沈丹陽

本申請公開了一種測量系統，配置為與處理設備集成，處理設備用于對結構進行光學測量，測量系統包括：密封的隔室；支撐組件，用于在測量系統測量結構時將結構保持在隔室內；和至少一個接口，被配置為將氣體或真空的流從處理設備輸送到結構的附近，結構位于隔室內。

技術領域

本申請屬于測量技術領域，并且涉及一種用于集成測量/監控系統的光學測量系統，該光學測量系統在半導體工業中特別有用。

背景技術

半導體裝置的制造包括要求在生產線上進行的晶片在連續的制造步驟之間被測量的多階段過程。半導體工業中尺寸縮小的當前趨勢以及半導體制造過程的動態性，增加了對精確診斷工具的需求，該診斷工具能夠為諸如閉環控制和前饋控制的短時間響應反饋環路提供接近實時的測量。這樣的嚴格要求不能通過不提供實時響應的離線(“獨立”)測量系統來獲得，并且不能通過諸如端點檢測裝置的現場檢測裝置來提供，因為它們的性能不夠精確。

已經開發了集成測量/監控技術，在半導體制造廠的生產線內提供具有完整計量能力的監控工具的物理實現。集成測量系統是物理上安裝在處理設備內部或附接到處理設備并專用于具體過程的系統。

集成測量系統要從幾個方面考慮，并滿足具體要求，以便可行。這樣的要求尤其包括以下內容：小的覆蓋區，即集成測量系統應具有盡可能小的覆蓋區，以便在物理上位于諸如CMP設備的處理設備內(例如，安裝在處理設備內部或經由裝載端口連接到設備前端模塊(EFEM))，例如將測量單元與處理設備的環境分離(例如，使用密封的外殼)；高速測量單元(例如，快速定位、自動聚焦以及測量)；可以選擇被生產過程繞過并在離線模式下操作；等。

已經開發并廣泛使用了各種集成測量/計量系統，可以從本申請的受讓人商購獲得，例如3090Next、等。

實用新型內容

在本領域中需要一種用于圖案化結構，尤其是復雜結構的光學測量的新型集成測量系統，該系統使得能夠使用垂直和傾斜測量方案兩者進行光學臨界尺寸(OCD)測量。

在許多情況下，用垂直和傾斜方案兩者執行光學晶片計量測量，以增加測量通道的數量是有利的。事實上，用垂直和傾斜測量方案的測量可以提供關于被測量結構的更完整的信息。

考慮到計量系統，特別是針對復雜圖案化結構的OCD測量，從不同的測量方案提供這種附加信息是重要的。這是因為用垂直和傾斜測量方案的測量可能對不同的結構參數具有不同的靈敏度，并且因此當組合使用時增加了關于被測量結構的信息量。此外，例如使用相對于垂直入射方案中的圖案的光的偏振平面的不同定向，和/或使用光入射的不同方位，將垂直和傾斜測量方案組合起來有助于增加進一步的測量通道。

根據本申請的一個方面，提供了一種測量系統，測量系統被配置為與處理設備集成，處理設備用于對結構進行光學測量，測量系統包括：密封的隔室；支撐組件，用于在測量系統測量結構時將結構保持在隔室內；和至少一個接口，被配置為將氣體或真空的流從處理設備輸送到結構的附近，結構位于隔室內。

根據示例性實施例，氣體或真空的源在處理設備內。

根據示例性實施例，至少一個接口是多個接口。

根據示例性實施例，密封接口形成在測量系統與處理設備的設備前端模塊之間。

根據示例性實施例，氣體是N2。

根據示例性實施例，氣體是CO2。

根據示例性實施例，測量系統的第一橫軸覆蓋尺寸超過測量系統的第二橫軸覆蓋尺寸。

根據示例性實施例，測量系統被配置為執行光學臨界尺寸測量。

根據示例性實施例，處理設備為材料去除處理設備。

根據示例性實施例，處理設備為材料沉積處理設備。