[實用新型]測量系統

有效

• 申請號: 201922021102.2
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN211291363U
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發明（設計）人: 埃拉·德多坦;莫舍·萬霍特斯克爾;希莫·亞洛夫;瓦萊里·戴希;羅伊·林格爾;本亞明·舒爾曼;紐希·巴爾·歐恩;沙哈爾·巴桑
• 申請（專利權）人: 諾威量測設備股份有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;G01N21/27;H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 沈丹陽

1.一種測量系統，其特征在于，所述測量系統被配置為與處理設備集成，所述處理設備用于對結構進行光學測量，所述測量系統包括：

密封的隔室；

支撐組件，用于在所述測量系統測量所述結構時將所述結構保持在所述隔室內；和

至少一個接口，被配置為將氣體或真空的流從處理設備輸送到所述結構的附近，所述結構位于所述隔室內。

2.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述氣體或真空的源在所述處理設備內。

3.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述至少一個接口是多個接口。

4.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，密封接口形成在所述測量系統與所述處理設備的設備前端模塊之間。

5.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述氣體是N₂。

6.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述氣體是CO₂。

7.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述測量系統的第一橫軸覆蓋尺寸超過所述測量系統的第二橫軸覆蓋尺寸。

8.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述測量系統被配置為執行光學臨界尺寸測量。

9.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述處理設備為材料去除處理設備。

10.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述處理設備為材料沉積處理設備。

11.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述處理設備為化學機械拋光或蝕刻處理設備中的一種。

12.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述支撐組件被配置為能操作以沿著第一橫軸移動；

其中，所述測量系統還包括支架組件和限定照明和收集光通道的光學系統，其中，所述照明和收集光通道中的至少一個支持傾斜光學測量方案；

其中，所述光學系統包括光學頭，所述光學頭包括構成所述照明和收集光通道的一部分的物鏡；

其中，所述支架組件被配置為使所述光學頭沿著朝向所述第一橫軸的第二橫軸移動。

13.根據權利要求12所述的測量系統，其特征在于，所述第一橫軸垂直于所述處理設備的設備前端模塊的裝載端口。

14.根據權利要求12所述的測量系統，其特征在于，其他照明和收集光通道中的至少一個用于垂直光學測量方案。

15.根據權利要求14所述的測量系統，其特征在于，所述測量系統還包括控制器，所述控制器被配置為能操作用于在垂直光學測量方案和傾斜光學測量方案之間能控制地轉換光學系統的操作。

16.根據權利要求15所述的測量系統，其特征在于，所述控制器被配置為通過控制快門的位置來在垂直光學測量方案和傾斜光學測量方案之間能控制地轉換光學系統的操作。

17.根據權利要求12所述的測量系統，其特征在于，所述測量系統包括外殼，所述外殼包括光學窗口，其中，所述外殼包括：小平面，所述光學窗口的中央光學窗口在所述小平面中制成；以及在所述小平面的相對側的兩個傾斜側面，在所述傾斜側面中制成所述光學窗口的兩個其他光學窗口，使得每個所述光學窗口位于與所述光學頭的相應物鏡的光軸呈九十度角的平面中。