[實(shí)用新型]一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu)和設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922007321.5 | 申請日: | 2019-11-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN211112187U | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅云鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 福建華佳彩有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 福州市景弘專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 徐劍兵;張忠波 |
| 地址: | 351100 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 面蒸鍍源 結(jié)構(gòu) 設(shè)備 | ||
1.一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:包括坩堝、擴(kuò)散腔和分散板,擴(kuò)散腔設(shè)置在坩堝開口上,所述擴(kuò)散腔底部開口坩堝頂部開口等大,擴(kuò)散腔內(nèi)設(shè)置有擴(kuò)散板,擴(kuò)散板上面設(shè)置有多個(gè)蒸汽擴(kuò)散孔,擴(kuò)散腔的開口由下往上依次增大,分散板蓋在擴(kuò)散腔的上開口處,分散板為平面板狀結(jié)構(gòu),分散板上設(shè)置有多個(gè)噴嘴,所述噴嘴貫通分散板的上下面,所述噴嘴在分散板上均勻排列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述坩堝底部為弧形底部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述坩堝壁、擴(kuò)散腔壁或者分散板內(nèi)置有電熱絲。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述坩堝、擴(kuò)散腔或者分散板為陶瓷材質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述擴(kuò)散板的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)的擴(kuò)散板由上往下依次設(shè)置在擴(kuò)散腔內(nèi),擴(kuò)散板上的蒸汽擴(kuò)散孔的大小由下往上依次變小且數(shù)量由下往上依次變多。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述擴(kuò)散板上的蒸汽擴(kuò)散孔的總面積占擴(kuò)散板面積的50%-60%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述噴嘴的頂端往分散板四周傾斜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種面蒸鍍源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述噴嘴的直徑為1mm-2mm的圓孔,噴嘴間距為3mm-5mm。
9.一種具有面蒸鍍源結(jié)構(gòu)的蒸鍍設(shè)備,其特征在于:所述面蒸鍍源結(jié)構(gòu)為權(quán)利要求1到8任意一項(xiàng)的面蒸鍍源結(jié)構(gòu)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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