[實用新型]一種大尺寸硅圓片減薄裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922000766.0
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN211681557U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 裴坤羽;祝斌;劉蛟龍;武衛(wèi);孫晨光;劉建偉;王聚安;由佰玲;劉園;謝艷;楊春雪;劉秒;常雪巖;呂瑩;徐榮清
• 申請（專利權(quán)）人: 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司;中環(huán)領(lǐng)先半導體材料有限公司
• 主分類號: B24B37/08
• 分類號: B24B37/08;B24B37/28;B24B37/34;H01L21/304;H01L21/67
• 代理公司: 天津諾德知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

本實用新型提供一種大尺寸硅圓片減薄裝置，包括用于放置硅圓片的載體座、用于放置左砂輪的左砂輪座以及用于放置右砂輪的右砂輪座，所述載體座、所述左砂輪座和所述右砂輪座同軸設(shè)置，所述左砂輪座和所述右砂輪座對稱設(shè)置在所述載體座兩側(cè)且與所述載體座并行設(shè)置。本實用新型尤其是適用于對尺寸直徑為280?320mm的硅圓片進行立式雙面減薄，結(jié)構(gòu)設(shè)計合理且簡單，不僅可對硅圓片兩側(cè)面同時同步進行磨削，而且各結(jié)構(gòu)配合可控，拆裝保養(yǎng)簡單，省時省力，保證硅圓片雙面減薄的平整度和穩(wěn)定性，提升工作效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于半導體單晶硅磨削技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種大尺寸硅圓片減薄裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)有硅圓片逐漸向大尺寸化和薄片化發(fā)展，常規(guī)的小尺寸硅圓片有化學減薄和機械減薄兩種。化學減薄就是通過用化學試劑與硅片表層發(fā)生反應，進而對硅片進行減薄。而對于大尺寸硅圓片由于尺寸面積較大，需要的化學試劑槽尺寸有限，且相互疊放的硅圓片無法被化學試劑完全腐蝕，容易導致減薄不均勻，成品率較低。機械減薄就是利用砂輪打磨硅圓片表面，通常由單個砂輪打磨完一面，硅圓片翻面后再加工另一面；這種減薄方式對于大尺寸硅圓片而言，單面加工時間較長，而且無法保證兩面幾何參數(shù)的一致性，不僅產(chǎn)能低而且產(chǎn)品表面質(zhì)量不穩(wěn)定，無法適應現(xiàn)有生產(chǎn)需求。

實用新型內(nèi)容

本實用新型提供一種大尺寸硅圓片減薄裝置，尤其是適用于尺寸直徑為280-320mm的硅圓片，解決了現(xiàn)有生產(chǎn)技術(shù)中減薄結(jié)構(gòu)設(shè)計不合理導致減薄后的硅圓片雙面幾何參數(shù)不一致、表面質(zhì)量不穩(wěn)定且生產(chǎn)效率低的技術(shù)問題。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的技術(shù)方案是：

一種大尺寸硅圓片減薄裝置，包括用于放置硅圓片的載體座、用于放置左砂輪的左砂輪座以及用于放置右砂輪的右砂輪座，所述載體座、所述左砂輪座和所述右砂輪座同軸設(shè)置，所述左砂輪座和所述右砂輪座對稱設(shè)置在所述載體座兩側(cè)且與所述載體座并行設(shè)置。

進一步的，所述載體座、所述左砂輪座和所述右砂輪座均為圓型結(jié)構(gòu)且直徑相同；所述載體座豎直放置。

進一步的，所述載體座內(nèi)側(cè)設(shè)有與所述硅圓片直徑相適配的放置孔，在所述放置孔邊緣任意位置處設(shè)有V型凸臺，所述V型凸臺頂端朝所述放置孔中心設(shè)置。

進一步的，所述載體座靠近所述左砂輪座一側(cè)設(shè)有向內(nèi)沿深的階梯槽，靠近所述右砂輪座一側(cè)設(shè)有內(nèi)齒輪，所述階梯槽和所述內(nèi)齒輪相對于所述放置孔對稱設(shè)置，且所述階梯槽內(nèi)徑與所述內(nèi)齒輪頂切直徑均大于所述放置孔內(nèi)徑。

進一步的，所述左砂輪座包括同軸設(shè)置的第一左盤和第二左盤，所述第一左盤遠離所述載體座設(shè)置；所述左砂輪置于所述第二左盤遠離所述第一左盤一側(cè)。

進一步的，所述第一左盤外緣設(shè)有第一凹槽，所述第二左盤外緣設(shè)有第二凹槽，所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述左砂輪位于所述第二左盤的中心軸線上，所述第二凹槽與所述左砂輪分別位于所述第二左盤直徑兩端。

進一步的，所述右砂輪座包括同軸設(shè)置的第一右盤和第二右盤，所述第一右盤遠離所述載體座設(shè)置；所述右砂輪置于所述第二右盤遠離所述第一右盤一側(cè)。

進一步的，所述第一右盤外緣設(shè)有第三凹槽，所述第二右盤外緣設(shè)有第四凹槽，所述第三凹槽、所述第四凹槽和所述右砂輪位于所述第二右盤的中心軸線上，所述第四凹槽與所述右砂輪分別位于所述第二右盤直徑兩端。

進一步的，在所述第四凹槽上設(shè)有外齒輪，所述外齒輪與所述內(nèi)齒輪相適配。

進一步的，所述第二左盤外徑和所述第二右盤外徑均與所述放置孔內(nèi)徑相適配。