[實用新型]一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921992284.1 | 申請日: | 2019-11-18 |
| 公開(公告)號: | CN210826325U | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳祖森;殷樂;雷鳴;趙鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 南陽市萬杰光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22 |
| 代理公司: | 北京久維律師事務(wù)所 11582 | 代理人: | 邢江峰 |
| 地址: | 473000 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空鍍膜 機用可 調(diào)節(jié) 平臺 | ||
本實用新型公開了一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺,包括底座,所述底座下端設(shè)置有連接塊,且連接塊為環(huán)形槽結(jié)構(gòu),并且連接塊內(nèi)設(shè)置有支撐桿,所述支撐桿上設(shè)置有空槽結(jié)構(gòu),且支撐桿上的空槽內(nèi)壁上設(shè)置有轉(zhuǎn)軸,并且轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有滾輪,所述支撐桿外壁上設(shè)置有凹槽,且凹槽上設(shè)置有平臺,所述平臺上設(shè)置有通孔,且通孔內(nèi)設(shè)置有頂桿,所述頂桿上端設(shè)置有抬面。該真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺采用真空鍍膜機主體通過底座與平臺進行連接,接著底座可通過平臺上的頂桿將底座進行頂起,然后底座通過連接塊在支撐桿上的滾輪上進行滾動,這樣就可便捷的將真空鍍膜機主體進行移動,從而在進行真空鍍膜機主體維修時也更加的便捷。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及真空鍍膜機設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺。
背景技術(shù)
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種,蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜,而一種一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺則是上述真空鍍膜機的一部分。
現(xiàn)在市場上的真空鍍膜機底部在進行維修時很難進行移動,從而不能滿足人們的使用需求。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺,以解決上述背景技術(shù)中提出的現(xiàn)在市場上的真空鍍膜機底部在進行維修時很難進行移動的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺,包括底座,所述底座下端設(shè)置有連接塊,且連接塊為環(huán)形槽結(jié)構(gòu),并且連接塊內(nèi)設(shè)置有支撐桿,所述支撐桿上設(shè)置有空槽結(jié)構(gòu),且支撐桿上的空槽內(nèi)壁上設(shè)置有轉(zhuǎn)軸,并且轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有滾輪,所述支撐桿外壁上設(shè)置有凹槽,且凹槽上設(shè)置有平臺,所述平臺上設(shè)置有通孔,且通孔內(nèi)設(shè)置有頂桿,所述頂桿上端設(shè)置有抬面。
優(yōu)選的,所述底座的上端設(shè)置有真空鍍膜機主體,且真空鍍膜機主體和底座通過焊接進行連接。
優(yōu)選的,所述真空鍍膜機主體通過底座下端的連接塊與支撐桿上的滾輪構(gòu)成滑動結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述連接塊內(nèi)設(shè)置有盲孔,且盲孔設(shè)置有兩個,并且盲孔的內(nèi)腔體積大于滾輪的體積。
優(yōu)選的,所述頂桿與通孔進行螺紋旋轉(zhuǎn)連接,且頂桿位于底座的中心處。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:該真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺采用真空鍍膜機主體通過底座與平臺進行連接,接著底座可通過平臺上的頂桿將底座進行頂起,然后底座通過連接塊在支撐桿上的滾輪上進行滾動,這樣就可便捷的將真空鍍膜機主體進行移動,從而在進行真空鍍膜機主體維修時也更加的便捷。
附圖說明
圖1為本實用新型一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺正視圖;
圖2為本實用新型一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺底座仰視圖;
圖3為本實用新型一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺圖1中A處放大結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本實用新型一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺頂桿底部仰視圖。
圖中:1、真空鍍膜機主體,2、底座,3、連接塊,4、凹槽,5、平臺,6、通孔,7、頂桿,8、抬面,9、支撐桿,10、盲孔,11、滾輪,12、轉(zhuǎn)軸。
具體實施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南陽市萬杰光電有限公司,未經(jīng)南陽市萬杰光電有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201921992284.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 調(diào)節(jié)板風(fēng)量調(diào)節(jié)裝置
- 調(diào)節(jié)腳及調(diào)節(jié)裝置
- 調(diào)節(jié)腳及調(diào)節(jié)裝置
- 配置文件的調(diào)節(jié)方法、調(diào)節(jié)裝置、調(diào)節(jié)系統(tǒng)以及記錄介質(zhì)
- 調(diào)節(jié)裝置、調(diào)節(jié)系統(tǒng)、調(diào)節(jié)方法和調(diào)節(jié)控制裝置
- 調(diào)節(jié)板及調(diào)節(jié)總成
- 調(diào)節(jié)機構(gòu)及調(diào)節(jié)系統(tǒng)
- 調(diào)節(jié)裝置和調(diào)節(jié)系統(tǒng)
- 調(diào)節(jié)裝置和調(diào)節(jié)系統(tǒng)
- 調(diào)節(jié)裝置及其調(diào)節(jié)方法





