[實用新型]一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921992284.1
• 申請日: 2019-11-18
• 公開（公告）號: CN210826325U
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設計）人: 吳祖森;殷樂;雷鳴;趙鵬
• 申請（專利權）人: 南陽市萬杰光電有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 北京久維律師事務所 11582
• 代理人: 邢江峰

1.一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺，其特征在于：包括底座(2)，所述底座(2)下端設置有連接塊(3)，且連接塊(3)為環(huán)形槽結構，并且連接塊(3)內(nèi)設置有支撐桿(9)，所述支撐桿(9)上設置有空槽結構，且支撐桿(9)上的空槽內(nèi)壁上設置有轉(zhuǎn)軸(12)，并且轉(zhuǎn)軸(12)上設置有滾輪(11)，所述支撐桿(9)外壁上設置有凹槽(4)，且凹槽(4)上設置有平臺(5)，所述平臺(5)上設置有通孔(6)，且通孔(6)內(nèi)設置有頂桿(7)，所述頂桿(7)上端設置有抬面(8)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺，其特征在于：所述底座(2)的上端設置有真空鍍膜機主體(1)，且真空鍍膜機主體(1)和底座(2)通過焊接進行連接。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺，其特征在于：所述真空鍍膜機主體(1)通過底座(2)下端的連接塊(3)與支撐桿(9)上的滾輪(11)構成滑動結構。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺，其特征在于：所述連接塊(3)內(nèi)設置有盲孔(10)，且盲孔(10)設置有兩個，并且盲孔(10)的內(nèi)腔體積大于滾輪(11)的體積。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種真空鍍膜機用可調(diào)節(jié)平臺，其特征在于：所述頂桿(7)與通孔(6)進行螺紋旋轉(zhuǎn)連接，且頂桿(7)位于底座(2)的中心處。