[實用新型]一種集成式PECVD

有效

• 申請號: 201921990151.0
• 申請日: 2019-11-18
• 公開（公告）號: CN210736882U
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 張文祥;劉雲成;劉冰;周學亮;陳偉;張海媛
• 申請（專利權）人: 天津中環電爐股份有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/52
• 代理公司: 天津濱?？凭曋R產權代理有限公司 12211
• 代理人: 耿樹志

本實用新型創造提供了一種集成式PECVD，包括工作臺和工作臺上設置的氣相沉積機構，該氣相沉積機構包括工作臺上滑動設置的爐體、以及爐體上設置的石英管，所述工作臺上設有用于驅動爐體移動的驅動器；所述工作臺上對應石英管兩端的位置設有用于支撐石英管的支撐機構。本實用新型創造結構簡單，易于使用，穩定性好，可靠性高；通過在連接架上設置導向組件，操作人員在調節支撐架時無需精細操作，大大降低了支撐架的調節難度，提高了支撐機構調節的便捷性，同時導向組件大大提高了支撐架移動的穩定性，有利于防止支撐架發生傾斜，避免支撐架磕碰損壞石英管。

技術領域

本發明創造屬于氣相沉積設備技術領域，尤其是涉及一種集成式PECVD。

背景技術

氣相沉積技術是利用氣相中發生的物理、化學過程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術按照成膜機理，可分為化學氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。低壓化學氣相沉積設備就是一種常用的鍍膜制造設備；但現有的PECVD設備普遍體積龐大，操作起來十分不便，工作臺上的爐體和石英管均不易調節，容易造成石英管的損壞。

發明內容

有鑒于此，本發明創造旨在克服上述現有技術中存在的缺陷，提出一種集成式PECVD。

為達到上述目的，本發明創造的技術方案是這樣實現的：

一種集成式PECVD，包括工作臺和工作臺上設置的氣相沉積機構，該氣相沉積機構包括工作臺上滑動設置的爐體、以及爐體上設置的石英管，所述工作臺上設有用于驅動爐體移動的驅動器；所述工作臺上對應石英管兩端的位置設有用于支撐石英管的支撐機構，該支撐機構包括工作臺上滑動設置的連接板、以及連接板上設置的連接架，所述連接架上設有可升降調節的支撐架，連接架上對應支撐架中部的位置設有用于限制支撐架移動的導向組件。

進一步的，所述支撐架包括水平設置的支撐板、以及支撐板上設置的支撐座，該支撐座上設有用于承載石英管的容納槽；所述連接架上設有用于安裝支撐板的螺柱，支撐板上設有與螺柱配合的安裝孔，所述螺柱上設有用于調節支撐板高度的調節螺母。

進一步的，所述連接架為倒U型結構件，所述導向組件包括連接架中部豎直設置的導向套，該導向套的頂端固定在連接架上、底端固定在連接板上；所述支撐架中部設有與導向套滑動配合的導向柱。

進一步的，所述導向柱上設有若干側棱，導向套上設有與側棱配合的導向槽。

進一步的，所述工作臺上設有用于控制氣相沉積機構工作的控制機構，該控制機構包括工作臺上滑動安裝的連接座、連接座上轉動安裝的支撐桿、以及支撐桿上設置的觸控屏。

進一步的，所述工作臺上設有滑道，連接座上設有與滑道滑動配合的滑動部，該滑動部穿過滑道的一端設有限位板，另一端設有用于固定連接座的頂板，所述頂板滑動安裝在連接座上，連接座上設有用于調節頂板位置的定位螺母。

進一步的，所述頂板朝向工作臺的一側設有限位柱，工作臺上沿滑道的長度方向設有多個與限位柱配合的限位槽。

相對于現有技術，本發明創造具有以下優勢：

本發明創造結構簡單，易于使用，穩定性好，可靠性高；通過在連接架上設置導向組件，操作人員在調節支撐架時無需精細操作，大大降低了支撐架的調節難度，提高了支撐機構調節的便捷性，同時導向組件大大提高了支撐架移動的穩定性，有利于防止支撐架發生傾斜，避免支撐架磕碰損壞石英管；通過在工作臺上設置可移動的連接座和觸控屏，提高了觸控屏使用的便捷性，同時通過移動連接座，還可以避免觸控屏遮擋爐體或石英管，便于操作人員從各個角度觀察爐體或石英管工作情況，進一步提高了這種PECVD使用的便捷性。

附圖說明