[實用新型]真空鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921985842.1
• 申請日: 2019-11-18
• 公開（公告）號: CN210856317U
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔣貴霞;賈建國
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山英利悅電子有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

本實用新型公開了真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室、固定臺，真空鍍膜室由腔室隔板分隔為多個鍍膜空間，真空鍍膜室中部固定有固定架，固定架通過轉(zhuǎn)動軸與電機(jī)傳動連接；固定臺設(shè)置在真空鍍膜室底部，固定臺頂部開設(shè)環(huán)形凹槽，環(huán)形凹槽內(nèi)嵌入鍍膜臺，鍍膜臺上放置基材。本實用新型的真空鍍膜裝置能同時對多個基材進(jìn)行鍍膜、還可在不同鍍膜空間內(nèi)設(shè)定不同的鍍膜參數(shù)，對基材鍍膜進(jìn)行對比實驗，鍍膜效率較高。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種真空鍍膜裝置，屬于真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中的真空鍍膜設(shè)備往往一次只能實現(xiàn)每次對單個基材進(jìn)行鍍膜，而且無法同時設(shè)定不同的鍍膜參數(shù)進(jìn)行實驗對比。因此導(dǎo)致真空鍍膜設(shè)備的真空室利用率低。因此目前急需設(shè)計一種真空鍍膜裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)同時對多個基材進(jìn)行快速鍍膜。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種真空鍍膜裝置，技術(shù)方案如下：

真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室、固定臺，

真空鍍膜室由腔室隔板分隔為多個鍍膜空間，真空鍍膜室中部固定有固定架，固定架通過轉(zhuǎn)動軸與電機(jī)傳動連接；

固定臺設(shè)置在真空鍍膜室底部，固定臺頂部開設(shè)環(huán)形凹槽，環(huán)形凹槽內(nèi)嵌入鍍膜臺，鍍膜臺上放置基材。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型所達(dá)到的有益效果：

本實用新型的真空鍍膜裝置能同時對多個基材進(jìn)行鍍膜、還可在不同鍍膜空間內(nèi)設(shè)定不同的鍍膜參數(shù)，對基材鍍膜進(jìn)行對比實驗。鍍膜效率較高。

附圖說明

圖1是本實用新型的真空鍍膜裝置的主視圖；

圖2是本實用新型的真空鍍膜裝置的俯視圖；

圖中：1-真空鍍膜室、2-固定架、3-腔室隔板、4-鍍膜臺、5-轉(zhuǎn)動軸、6-電機(jī)、7-固定臺、8-環(huán)形凹槽、9-基材。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本實用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實用新型的保護(hù)范圍。

實施例1

如圖1和圖2，真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室1、固定臺7，

真空鍍膜室1由腔室隔板3分隔為多個鍍膜空間，真空鍍膜室1中部固定有固定架2，固定架2通過轉(zhuǎn)動軸5與電機(jī)6傳動連接；

固定臺7設(shè)置在真空鍍膜室1底部，固定臺7頂部開設(shè)環(huán)形凹槽8，環(huán)形凹槽8內(nèi)嵌入鍍膜臺4，鍍膜臺4上放置基材9。本實施例中劃分為4個鍍膜空間，在實際使用時可以根據(jù)基材9的大小對腔室隔板3的數(shù)目進(jìn)行增減。鍍膜效率更高，且可以在不同鍍膜空間內(nèi)設(shè)定不同的鍍膜參數(shù)，例如鍍膜所需靶材、鍍膜時間等。鍍膜臺4與真空鍍膜室1在電機(jī)6的驅(qū)動下沿環(huán)形凹槽滑動，能夠?qū)崟r調(diào)整基材9的鍍膜參數(shù)。

本實施例中具體地，鍍膜臺4底部固定沿環(huán)形凹槽8移動的多個滑塊（圖中未示出）。

本實施例中作為優(yōu)選，多個滑塊沿鍍膜臺4周向均勻分布。

本實施例中作為優(yōu)選，鍍膜臺4上開設(shè)多個容納基材9的凹陷部。

實施例2

如圖1和圖2，真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室1、固定臺7，

真空鍍膜室1由腔室隔板3分隔為多個鍍膜空間，真空鍍膜室1中部固定有固定架2，固定架2通過轉(zhuǎn)動軸5與電機(jī)6傳動連接；