[實用新型]真空鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201921985842.1 | 申請日： | 2019-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN210856317U | 公開（公告）日： | 2020-06-26 |
| 發明（設計）人： | 蔣貴霞;賈建國 | 申請（專利權）人： | 昆山英利悅電子有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/22 | 分類號： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空鍍膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.真空鍍膜裝置，其特征在于，包括真空鍍膜室、固定臺，
所述真空鍍膜室由腔室隔板分隔為多個鍍膜空間，所述真空鍍膜室中部固定有固定架，所述固定架通過轉動軸與電機傳動連接；
所述固定臺設置在所述真空鍍膜室底部，所述固定臺頂部開設環形凹槽，所述環形凹槽內嵌入鍍膜臺，所述鍍膜臺上放置基材。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜臺底部固定沿所述環形凹槽移動的多個滑塊。
3.根據權利要求2所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，多個所述滑塊沿所述鍍膜臺周向均勻分布。
4.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜臺底部固定沿所述環形凹槽移動的多個滾輪。
5.根據權利要求4所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，多個滾輪沿所述鍍膜臺周向均勻分布。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜臺上開設多個容納所述基材的凹陷部。
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