[實用新型]一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921908562.0 | 申請日： | 2019-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN211757120U | 公開（公告）日： | 2020-10-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 沈澤康;陳曉靜 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇英銳半導體有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/02 | 分類號： | B08B3/02;B08B3/10;B08B13/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 224000 江蘇省鹽城市鹽城經(jīng)*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 碳化硅 晶片 清洗 裝置 | ||
本實用新型公開了一種本實用新型公開了一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置，包括底板，所述底板的一側(cè)內(nèi)部固定連接有底座，所述底座的內(nèi)部中心處固定連接有第一電機，所述第一電機的轉(zhuǎn)動軸的頂端固定連接有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的頂端固定連接有多個吸盤，所述底板的底端固定連接有廢液槽，所述底板的中心處固定連接有升降槽，所述升降槽的底端中心處固定連接有第五電機，所述第五電機的轉(zhuǎn)動軸的頂端固定連接有螺紋桿，所述升降座的內(nèi)部中心處螺紋傳動連接有螺紋桿，本實用新型通過多個電機和轉(zhuǎn)動座的設(shè)置，實現(xiàn)清洗噴頭的多軸轉(zhuǎn)動，通過轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)晶片，配合噴頭的多軸轉(zhuǎn)動，對晶片實現(xiàn)全方位的清洗，增加清洗面積，減少單點水流預清洗使用的時間。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及芯片制造領(lǐng)域，尤其涉及一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的單晶碳化硅在打磨之后需要在無塵環(huán)境下進行預清洗，預清洗的效果直接決定無塵室晶片清洗的來料情況及最終襯底表面的潔凈度品質(zhì)。
現(xiàn)有的預清洗使用水流沖洗，時間長，效果不好，清洗過程中，水流較為集中，容易對單晶碳化硅晶片造成損傷。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點，而提出的一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用了如下技術(shù)方案：一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置，包括底板，所述底板的一側(cè)內(nèi)部固定連接有底座，所述底座的內(nèi)部中心處固定連接有第一電機，所述第一電機的轉(zhuǎn)動軸的頂端固定連接有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的頂端固定連接有多個吸盤，所述底板的底端固定連接有廢液槽，所述底板的中心處固定連接有升降槽，所述升降槽的底端中心處固定連接有第五電機，所述第五電機的轉(zhuǎn)動軸的頂端固定連接有螺紋桿，所述升降槽的內(nèi)部滑動連接有升降座，所述升降座的內(nèi)部中心處螺紋傳動連接有螺紋桿，所述升降座的頂端固定連接有第二電機，所述第二電機的轉(zhuǎn)動軸的前端固定連接有第二轉(zhuǎn)動座，所述第二轉(zhuǎn)動座的頂端固定連接有第三電機，所述第三電機的轉(zhuǎn)動軸的前端固定連接有第一轉(zhuǎn)動座，所述第一轉(zhuǎn)動座的頂端固定連接有第四電機，所述第四電機的轉(zhuǎn)動軸的前端固定連接有固定套，所述固定套的中心處固定連接有連接管，所述連接管的一端螺紋連接有噴頭，所述連接管的另一端固定連接有軟管，所述軟管遠離連接管的一端固定連接有水泵，所述水泵的另一端連接有清洗液槽。
進一步地，所述底座的周側(cè)設(shè)置有聚水槽，所述聚水槽的一側(cè)底端設(shè)置有排水口，所述排水口穿過底板延伸至廢液槽的內(nèi)部。
進一步地，多個所述吸盤遠離轉(zhuǎn)盤的一端吸附連接有單晶碳化硅晶片，多個所述吸盤一共四個分布在轉(zhuǎn)盤的頂端。
進一步地，所述升降座的底端兩側(cè)設(shè)置有凸起，所述升降槽在與升降座的滑動連接處設(shè)置有對應的滑槽。
進一步地，所述升降座的內(nèi)部設(shè)置有螺母，所述螺紋桿與升降座內(nèi)部的螺母進行傳動連接。
進一步地，所述底板的頂端設(shè)置有防塵罩，所述防塵罩的一端設(shè)置在遠離聚水槽的位置，所述防塵罩的另一端設(shè)置在水泵的中心處。
本實用新型具有如下有益效果：
1、本實用新型通過多個電機和轉(zhuǎn)動座的設(shè)置，實現(xiàn)清洗噴頭的多軸轉(zhuǎn)動，通過轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)晶片，配合噴頭的多軸轉(zhuǎn)動，對晶片實現(xiàn)全方位的清洗，增加清洗面積，減少單點水流預清洗使用的時間。
2、本實用新型通過設(shè)置聚水槽、排水口等，將清洗的液體的進行收集，導入至廢液槽，經(jīng)過后期處理，進行循環(huán)利用。
附圖說明
圖1為本實用新型提出的一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置的正視圖；
圖2為本實用新型提出的一種單晶碳化硅晶片的清洗裝置的局部俯視圖；
圖3為圖1中A處的放大圖；
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