[實(shí)用新型]一種電鍍廢水的處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921878018.6
• 申請日: 2019-10-31
• 公開（公告）號: CN211688571U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李俊鋒;王希彬;王曉麗;朱瑋鈺;任義
• 申請（專利權(quán)）人: 西峽龍成特種材料有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F11/122;C02F101/20;C02F103/16
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 李雙艷

本實(shí)用新型提供了一種電鍍廢水的處理設(shè)備，涉及廢水處理技術(shù)領(lǐng)域。其包括依次串聯(lián)設(shè)置的廢水調(diào)節(jié)池、廢水緩沖池、加堿反應(yīng)池、充分反應(yīng)池、絮凝池、絮凝緩沖池、廢水均布池、沉淀池、pH中和池、過濾吸附池和凈水池。通過廢水緩沖池緩沖設(shè)置，減小廢水對加堿反應(yīng)池的沖擊，有效避免廢水中含有活性劑對沉淀物漂浮作用，增加沉淀效果；充分反應(yīng)池使電鍍廢水得到充分反應(yīng)，通過絮凝緩沖池使反應(yīng)后的物質(zhì)充分絮凝成沉降物，使廢水凈化更為徹底，廢水處理后的凈水穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種電鍍廢水的處理設(shè)備。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的電鍍廢水處理設(shè)備處理后的廢水不能穩(wěn)定的達(dá)到國家電鍍廢水的排放標(biāo)準(zhǔn)。現(xiàn)有廢水處理設(shè)備及處理方法加堿后，存在反應(yīng)不充分的問題，造成廢水處理后重金屬含量較高，超出排放標(biāo)準(zhǔn)。此外，每個月內(nèi)常有數(shù)天存在電鍍廢水處理過程中加堿后，反應(yīng)物漂浮，即使加入絮凝劑絮凝仍無法解決漂浮問題，漂浮物流至中和池與酸反應(yīng)，使得重金屬離子還原，抑制了廢水處理的進(jìn)行。

鑒于此，特提出本實(shí)用新型。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種電鍍廢水的處理設(shè)備以解決上述技術(shù)問題。

本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種電鍍廢水的處理設(shè)備，其包括依次串聯(lián)設(shè)置的廢水調(diào)節(jié)池、廢水緩沖池、加堿反應(yīng)池、充分反應(yīng)池、絮凝池、絮凝緩沖池、廢水均布池、沉淀池、pH中和池、過濾吸附池和凈水池。

廢水緩沖池起到消除水流沖擊，從而避免電鍍廢水中含有的表面活性劑等成分受沖擊的影響而產(chǎn)生氣泡。設(shè)置廢水緩沖池之后，廢水到達(dá)加堿反應(yīng)池后，水流變成平緩流動，活性劑成分平緩釋放，此時加堿可以避免加堿過程反應(yīng)產(chǎn)物出現(xiàn)漂浮不沉淀現(xiàn)象。

通過充分反應(yīng)池可以促進(jìn)電鍍廢水中的金屬離子與堿充分反應(yīng)，避免反應(yīng)不充分流入后道工序，造成金屬離子殘留超標(biāo)。

通過設(shè)置絮凝池，添加絮凝劑，使反應(yīng)物產(chǎn)生絮凝。

通過設(shè)置絮凝緩沖池進(jìn)一步促進(jìn)反應(yīng)物絮凝長大，從而保證充分沉淀。

在本實(shí)用新型應(yīng)用較佳的實(shí)施例中，上述電鍍廢水為電鍍鎳廢水、電鍍銅廢水或電鍍鉻廢水。

本實(shí)用新型提供的廢水處理設(shè)備可以廣泛用于電鍍鎳、電鍍銅或電鍍鉻廢水處理。

在本實(shí)用新型應(yīng)用較佳的實(shí)施例中，上述廢水均布池和沉淀池的數(shù)目均為至少一個，充分反應(yīng)池和絮凝緩沖池設(shè)置供流體上下交替進(jìn)出的水流控制裝置。

充分反應(yīng)池和絮凝緩沖池中設(shè)置供流體上下交替進(jìn)出的水流控制裝置既可以使得廢水中的金屬離子與堿充分反應(yīng)，也使絮凝劑與反應(yīng)物充分混合絮凝，為沉淀做好準(zhǔn)備。

在本實(shí)用新型應(yīng)用較佳的實(shí)施例中，上述充分反應(yīng)池內(nèi)和絮凝緩沖池內(nèi)設(shè)置有用于控制充分反應(yīng)池和絮凝緩沖池中液體流向的擋板，擋板為水流控制裝置中的一種。

在本實(shí)用新型應(yīng)用較佳的實(shí)施例中，上述擋板的數(shù)目至少為一個，且擋板垂直于充分反應(yīng)池底部和絮凝緩沖池底部設(shè)置，擋板與充分反應(yīng)池的底部之間或擋板與絮凝緩沖池底部之間留有用于使擋板兩側(cè)的充分反應(yīng)池或絮凝緩沖池內(nèi)液體流通的間隙。

本實(shí)施例中，設(shè)置擋板作為供流體上下交替進(jìn)出的裝置的一種選擇方式，擋板可以使得充分反應(yīng)池內(nèi)的液體流向發(fā)生較大的偏轉(zhuǎn)，有利于堿液與金屬離子的反應(yīng)形成氫氧化物，進(jìn)而到下一工序進(jìn)行絮凝。

在本實(shí)用新型應(yīng)用較佳的實(shí)施例中，上述充分反應(yīng)池內(nèi)或絮凝緩沖池內(nèi)設(shè)置有控制液體流向的隔層，隔層為水流控制裝置中的一種。

隔層的設(shè)置有利于氫氧化物聚集長大，為沉淀做好充分準(zhǔn)備。