[實用新型]一種電鍍廢水的處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921878018.6
• 申請日: 2019-10-31
• 公開（公告）號: CN211688571U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李俊鋒;王希彬;王曉麗;朱瑋鈺;任義
• 申請（專利權(quán)）人: 西峽龍成特種材料有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F11/122;C02F101/20;C02F103/16
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 李雙艷

1.一種電鍍廢水的處理設(shè)備，其特征在于，其包括依次串聯(lián)設(shè)置的廢水調(diào)節(jié)池、廢水緩沖池、加堿反應(yīng)池、充分反應(yīng)池、絮凝池、絮凝緩沖池、廢水均布池、沉淀池、pH中和池、過濾吸附池和凈水池。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述電鍍廢水為電鍍鎳廢水、電鍍銅廢水或電鍍鉻廢水。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述廢水均布池和所述沉淀池的數(shù)目均為至少一個，所述充分反應(yīng)池和所述絮凝緩沖池設(shè)置供流體上下交替進出的水流控制裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述充分反應(yīng)池內(nèi)和所述絮凝緩沖池內(nèi)設(shè)置有用于控制充分反應(yīng)池和絮凝緩沖池中液體流向的擋板，所述擋板為所述水流控制裝置中的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述擋板的數(shù)目至少為一個，且所述擋板垂直于所述充分反應(yīng)池底部和所述絮凝緩沖池底部設(shè)置，所述擋板與所述充分反應(yīng)池的底部之間或所述擋板與所述絮凝緩沖池底部之間留有用于使所述擋板兩側(cè)的充分反應(yīng)池或絮凝緩沖池內(nèi)液體流通的間隙。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述充分反應(yīng)池內(nèi)或所述絮凝緩沖池內(nèi)設(shè)置有控制液體流向的隔層，所述隔層為所述水流控制裝置中的一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述加堿反應(yīng)池、絮凝池和pH中和池內(nèi)均設(shè)置有攪拌裝置；所述攪拌裝置為攪拌機或壓縮空氣攪拌裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述處理設(shè)備還包括壓濾機和收集池；所述壓濾機連接污泥池和收集池。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其特征在于，所述沉淀池為斜管沉淀池。