[實用新型]逆止閥及半導體設備

有效

• 申請號: 201921864390.1
• 申請日: 2019-10-31
• 公開（公告）號: CN211010020U
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 檀忠毅;羅義波
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號: F16K15/08
• 分類號: F16K15/08;F16K27/02
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

本實用新型提供了一種逆止閥及半導體設備，逆止閥安裝在排氣管路上，包括閥腔及設置于閥腔內的閥芯，閥芯包括閥片及環形的承載座，所述承載座內設置有若干支撐柱，至少一個所述支撐柱與所述閥片連接，由于進口端和出口端之間存在壓差，所述閥片會遮蓋所述承載座的通孔，當真空泵停機時，在介質的驅動下，與所述閥片連接的支撐柱在所述承載座內垂向移動以使所述閥片迅速遮蓋所述進口端，能夠及時、快速的防止排氣管路中的廢氣或副產物進入反應腔中，提高產品的良率；并且，由于閥片放置在支撐柱上，可以減少閥片和承載座之件的副產物堆積，支撐柱設置在承載座內，也不會附著副產物，可以避免閥片動作異常，延長逆止閥的使用壽命。

技術領域

本實用新型涉及半導體制備技術領域，尤其涉及一種逆止閥及半導體設備。

背景技術

在半導體制備工藝中，通常會將晶圓置于反應腔中進行處理，例如進行成膜、刻蝕或清洗等，反應腔連接有進氣管路和排氣管路，進氣管路用于在反應腔中通入反應氣體，排氣管路用于將反應腔中的廢氣排出，在排氣管路的末端連接有真空泵，真空泵用于形成低氣壓使反應腔中的廢氣被抽進排氣管路中進而排出。然而，排氣管路的關鍵部件發生故障(例如真空泵在發生故障)或者反應腔中發生異常(例如晶圓發生移位)時均會導致整個工藝過程停止，真空泵關閉，排氣管路中的氣體壓力可能高于反應腔中的壓力，導致排氣管路的廢氣逆流進入反應腔中，同時，排氣管路中的副產物、雜質顆粒及大量廢氣會回灌到反應腔中，導致產品被污染或者直接報廢。

現有的排氣管路中通常會安裝一個真空閥件，以防止大量廢氣回灌，但是真空閥件開啟或關閉需要較長的時間，無法及時、有效的阻絕廢氣和副產物回灌。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種逆止閥及半導體設備，以解決現有的真空閥件無法及時、有效的組織阻絕廢氣和副產物從排氣管路回灌入反應腔中的問題。

為了達到上述目的，本實用新型提供了一種逆止閥，包括：

閥腔，包括供介質進出的進口端和出口端；

閥芯，設置于所述閥腔內，包括閥片及承載座，所述承載座內具有一通孔以使所述承載座呈環形，所述承載座內設置有若干支撐柱，所述閥片設置于所述支撐柱上，至少一個所述支撐柱與所述閥片連接，與所述閥片連接的支撐柱能夠在所述承載座內垂向移動以使所述閥片遮蓋所述通孔或遮蓋所述進口端。

可選的，所述支撐柱周向均勻設置于所述承載座的環面內，且至少兩個所述支撐柱與所述閥片連接。

可選的，所述承載座包括設置于所述通孔內的若干支撐架，所述支撐架沿所述承載座的徑向分布且兩端均與所述通孔的側壁連接，所述支撐柱位于所述支撐架內。

可選的，所述支撐柱包括第一支撐柱和若干第二支撐柱，所述第一支撐柱位于若干所述支撐架的交點處，且所述第一支撐柱與所述閥片連接；所述第二支撐柱位于每個所述支撐架的中心與端部之間的區域內。

可選的，所述承載座內設置有若干預留孔，一個所述支撐柱插入一個所述預留孔以形成間隙配合。

可選的，所述支撐柱的至少一端伸出所述預留孔，并使所述閥片與所述承載座之間具有第一間隙。

可選的，所述承載座的表面具有至少一個凸出部，與所述閥片連接的支撐柱伸出所述承載座的端部被所述凸出部包覆。

可選的，所述承載座的環面上還設置有若干穿孔。

可選的，所述承載座的外壁與所述閥腔的內壁之間具有第二間隙，所述介質從進口端進入后，至少通過所述第二間隙從所述出口端流出。

本實用新型還提供了一種半導體設備，包括反應腔及真空泵，所述反應腔與所述真空泵之間通過排氣管路連接，所述排氣管路上設置有所述的逆止閥。