[實用新型]一種拋光表面檢測裝置有效
| 申請號: | 201921853522.0 | 申請日: | 2019-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN211332765U | 公開(公告)日: | 2020-08-25 |
| 發明(設計)人: | 孫韜 | 申請(專利權)人: | 寧波日晟新材料有限公司 |
| 主分類號: | B24B49/12 | 分類號: | B24B49/12;B24B37/005;G01B11/06;G01B11/30 |
| 代理公司: | 寧波知坤專利代理事務所(特殊普通合伙) 33312 | 代理人: | 朱玉泉 |
| 地址: | 315410 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 拋光 表面 檢測 裝置 | ||
本實用新型涉及半導體制造技術領域,具體為一種拋光表面檢測裝置,包括基座、轉動軸、研磨墊、修整器、拋光頭、軸桿,還包括噴淋桿,噴淋桿上通過噴淋轉軸轉動連接有噴淋頭,噴淋桿與噴淋頭內設有供研磨液流動的液體通道,液體通道連通有補液通道,補液通道連接有補液箱,補液通道上還設有控制補液通道開閉的轉動桿,轉動桿上開設有研磨液通過的通孔,轉動桿還同軸連接有傳動組,傳動組的另一端與噴淋轉軸同軸連接。為了能夠實時補充研磨液,本實用新型將噴淋頭的轉動與轉動桿連動,且轉動桿設置通孔,用轉動桿的轉動改變通孔的方向從而控制研磨液在補液通道的流通和截止。
技術領域
本實用新型涉及半導體制造技術領域,具體為一種拋光表面檢測裝置。
背景技術
化學機械拋光工藝為拋光工藝中的其中一種,是一種平坦化工藝,自1990年被引入集成電路制造工藝以來,經過不斷實踐和發展,已成為推動集成電路技術節點不斷縮小的關鍵工藝。目前,化學拋光工藝已經被廣泛應用于淺溝槽隔離結構平坦化、多晶硅平坦化、柵電平坦化、鎢塞平坦化和銅互連平坦化等工藝中,還被應用于基底表面上的其他薄膜層的拋光。
目前,現有技術中的化學機械拋光表面檢測裝置包括基座,基座下方轉動連接有轉動軸,基座上表面研磨墊,位于研磨墊邊緣表面設有用于修整磨損的修整器,位于研磨墊上方的拋光頭,與拋光頭相連的軸桿,設置于拋光頭上的用于固定晶圓的夾持環。研磨液通過位于研磨墊上方的噴淋頭被噴淋至研磨墊表面,晶圓的表面與研磨液發生化學反應,反應后的產物在拋光墊的機械研磨作用下被去除,從而實現晶圓表面的平坦化以及達到對晶圓表面的檢測效果。
但是,打磨過程中噴淋頭所需的噴淋液需要源源不斷的提供,以保證進行化學機械拋光時,不會因噴淋液不足而停止化學機械拋光步驟。
實用新型內容
本實用新型的主要目的在于提供一種能夠保證噴淋液足夠以完成整個化學機械拋光步驟的拋光表面檢測裝置。
為達到以上目的,本實用新型采用的技術方案為:一種拋光表面檢測裝置,包括機架、基座、轉動軸、研磨墊、修整器、拋光頭、軸桿,還包括噴淋桿,所述噴淋桿上通過噴淋轉軸轉動連接有噴淋頭,所述噴淋桿與所述噴淋頭內設有供研磨液流動的液體通道,所述液體通道連通有補液通道,所述補液通道連接有補液箱,所述補液通道上還設有控制補液通道開閉的轉動桿,所述轉動桿上開設有研磨液通過的通孔,所述轉動桿還同軸連接有傳動組,所述傳動組的另一端與所述噴淋轉軸同軸連接。
進一步優化,所述拋光頭底面可拆卸連接有殼體,所述殼體內設有環形固定圈,所述環形固定圈沿圓周方向均勻設有若干滑槽,所述滑槽內滑動連接有滑塊,所述滑塊連接有夾持晶圓的夾持件;所述環形固定圈處于所述滑槽位置處均勻設有刻度線;所述夾持件上設有紅外裝置,所述紅外裝置包括紅外線發射器以及紅外線接收器,相應紅外線發射器和紅外線接收器相對設置。
進一步優化,所述傳動組包括第一齒輪,所述第一齒輪與所述噴淋轉軸同軸連接,所述第一齒輪同軸連接有第二齒輪,所述第二齒輪嚙合有第三齒輪,所述第三齒輪與所述轉動桿同軸連接。
進一步優化,所述噴淋桿處于第二齒輪位置一側開設有用于放置第三齒輪的噴淋殼體,所述噴淋殼體固定連接在機架上。
進一步優化,所述第一齒輪與所述第二齒輪的傳動比為1:2~4,所述第二齒輪與所述第三齒輪的傳動比為1:1。
進一步優化,所述滑塊處于所述滑槽底部時,所述滑塊下表面所對應的水平線為0基準線。
進一步優化,所述滑槽的數量為4個,所述滑塊的數量為4個。
進一步優化,所述紅外線發射器的數量為2個,所述紅外線接收器的數量為2個,所述紅外裝置安裝在所述夾持件的底端;相對應的所述紅外線發射器與所述紅外線接收器采用直線對射設置。
進一步優化,當兩個所述紅外線接收器均接收到相對應所述紅外線發射器的信號時,化學機械拋光過程結束。
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