[實用新型]一種槽式硅片加工機臺

有效

• 申請號: 201921840700.6
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN210692495U
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 易書令;馬曉林;潘岳林;姜大俊;潘勵剛;鄭旭然
• 申請（專利權）人: 鹽城阿特斯陽光能源科技有限公司;阿特斯陽光電力集團有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本實用新型公開了一種槽式硅片加工機臺，其包括內槽、外槽、加熱裝置和均液管，內槽被配為盛放硅片花籃，外槽環繞內槽設置，外槽的上端面高于內槽的上端面，外槽上設有出液口，加熱裝置包括加熱殼體和配合在加熱殼體內的加熱件，加熱殼體位于外槽的外側，加熱殼體具有液體進口和液體出口，液體進口與出液口相連，加熱件的外側設有防腐蝕層，均液管設在內槽內，均液管上設有多個均液孔和進液口，進液口與液體出口相連。該槽式硅片加工機臺能夠較好地避免加熱裝置對藥液的污染，并且能夠較好地保證反應槽內的藥液溫度較為均勻。

技術領域

本實用新型涉及光伏設備技術領域，尤其涉及一種槽式硅片加工機臺。

背景技術

目前主流的槽式機臺加熱裝置仍設計為內置加熱，即加熱裝置安裝至槽式機臺底部，在設定溫度下進行通電加熱。由于加熱裝置整個線路安裝至槽體中，經過強酸強堿的高溫腐蝕下，很容易形變、破損、變色，內部金屬泄露極容易造成槽體污染，直接導致硅片電性能偏低、EL出現晶界痕。且加熱裝置影響整個藥液循環，造成批量色差片，給整個制絨工序帶來極大損失。

此外，為了保證槽式機臺內部藥液的溫度較為均勻，加熱裝置通常采用電加熱板，電加熱板通常由很多小電阻絲組成，這樣更容易被藥液腐蝕從而污染藥液。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提出一種槽式硅片加工機臺，該槽式硅片加工機臺能夠較好地避免加熱裝置對藥液的污染，并且能夠較好地保證反應槽內的藥液溫度較為均勻。

為實現上述技術效果，本實用新型實施例的槽式硅片加工機臺的技術方案如下：

一種槽式硅片加工機臺，包括：內槽，所述內槽被配為盛放硅片花籃；外槽，所述外槽環繞所述內槽設置，所述外槽的上端面高于所述內槽的上端面，所述外槽上設有出液口；加熱裝置，所述加熱裝置包括加熱殼體和配合在所述加熱殼體內的加熱件，所述加熱殼體位于所述外槽的外側，所述加熱殼體具有液體進口和液體出口，所述液體進口與所述出液口相連，所述加熱件的外側設有防腐蝕層；均液管，所述均液管設在所述內槽內，所述均液管上設有多個均液孔和進液口，所述進液口與所述液體出口相連。

在一些實施例中，所述槽式硅片加工機臺還包括溫度檢測件，所述溫度檢測件設在所述內槽內，所述溫度檢測件被配置為檢測所述內槽的藥液溫度，所述溫度檢測件與所述加熱件電連接。

在一些實施例中，所述槽式硅片加工機臺還包括輸送泵，所述輸送泵設在所述出液口與所述液體進口之間。

在一些可選的實施例中，所述槽式硅片加工機臺還包括第一液位傳感器，所述第一液位傳感器設在所述外槽上，所述第一液位傳感器被配置為檢測所述外槽內的液面高度，所述第一液位傳感器與所述輸送泵電連接。

在一些具體的實施例中，所述槽式硅片加工機臺還包括第二液位傳感器，所述第二液位傳感器設在所述加熱殼體上，所述第二液位傳感器被配置為檢測所述加熱殼體內的液面高度，所述第二液位傳感器與所述輸送泵電連接。

在一些更具體的實施例中，所述第二液位傳感器位于所述液體出口的上方。

在一些可選的實施例中，所述槽式硅片加工還包括分流管和控制閥，所述分流管的一端連接在輸送泵上，另一端與所述均液管的所述均液孔相連，所述分流管上設有分流閥，所述控制閥設在所述均液管與所述出液口之間。

在一些具體的實施例中，所述槽式硅片加工機臺還包括花籃支架，所述花籃支架設在所述內槽內，所述花籃支架被配置為支撐所述硅片花籃。

在一些更具體的實施例中，所述均液管的兩端配合在所述花籃支架上，所述均液管與所述內槽的底壁間隔設置。

在一些更具體實施例中，多個所述均液孔沿所述均液管的長度方向均勻間隔分布。