[實用新型]一種用于微小電子元件的上部整列裝置有效
| 申請號: | 201921817858.1 | 申請日: | 2019-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN210640214U | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發明(設計)人: | 孟葉;高曉藝 | 申請(專利權)人: | 蘇州英諾威視圖像有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/66;H01L21/68;H01L21/67 |
| 代理公司: | 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 胡濤 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 微小 電子元件 上部 裝置 | ||
1.一種用于微小電子元件的上部整列裝置,包括可以旋轉的玻璃盤,所述玻璃盤的一側對接振動盤的出料口,所述出料口位于所述玻璃盤的上方,其特征在于:所述玻璃盤一側設置有整列機構,所述整列機構位于所述出料口一側,所述整列機構包括真空整列組和靜電整列組,所述真空整列組包括可上下前后運動的真空吸附頭,所述真空吸附頭位于所述玻璃盤的上方,所述真空吸附頭的下端面開設整列槽,所述整列槽內設置有用于連通真空發生器的通孔;所述靜電整列組包括可上下調節的靜電發生頭,所述靜電發生頭位于所述玻璃盤上方,所述靜電發生頭的下端設置有銅片;所述銅片位置與所述真空吸附頭的位置對應設置;
所述整列機構包括第一底座,所述第一底座上方設置有可前后運動的第一滑臺,所述第一滑臺一側設置有可將其水平推動的第一千分尺旋鈕連接,所述第一千分尺旋鈕通過第一固定座設置在所述第一底座上,所述第一滑臺上端設置有第一安裝座,所述第一安裝座的前側設置有可上下運動的第二滑臺,所述第二滑臺上方設置有可將其豎直推動的第二千分尺旋鈕,所述第二滑臺上設置有所述真空吸附頭。
2.根據權利要求1所述的一種用于微小電子元件的上部整列裝置,其特征在于:所述真空吸附頭包括水平設置的第一真空板,所述第一真空板的前端開設有卡槽,所述第一真空板的前方設置有第二真空板,所述第二真空板的后端設置在卡槽內。
3.根據權利要求2所述的一種用于微小電子元件的上部整列裝置,其特征在于:所述靜電整列組包括豎直設置并與所述第一底座連接的第一安裝桿,所述第一安裝桿上端連接有水平設置的第二安裝桿,所述第二安裝桿的前端設置有所述靜電發生頭,所述第一安裝桿的上端設置有豎直的腰型孔,所述第二安裝桿通過所述腰型孔與所述第一安裝桿連接。
4.根據權利要求3所述的一種用于微小電子元件的上部整列裝置,其特征在于:包括設置在所述玻璃盤下方的加熱機構,所述加熱機構包括安裝立柱,所述安裝立柱的上端設置有加熱座,所述加熱座一側設置有散熱片,所述散熱片一側設置有風扇,所述散熱片處設置有溫度傳感器。
5.根據權利要求4所述的一種用于微小電子元件的上部整列裝置,其特征在于:所述靜電發生頭的一側設置有用于屏蔽靜電的擋板。
6.根據權利要求5所述的一種用于微小電子元件的上部整列裝置,其特征在于:所述銅片形狀為L型。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州英諾威視圖像有限公司,未經蘇州英諾威視圖像有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201921817858.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





