[實(shí)用新型]高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921816713.X | 申請日: | 2019-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN211174135U | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄒光炯;易誼;周捷;彭輝;張榮;梅樂勝;宋何陽 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶市軌道交通設(shè)計(jì)研究院有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | E21D11/10 | 分類號: | E21D11/10;E21D11/18 |
| 代理公司: | 重慶棱鏡智慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50222 | 代理人: | 李興寰 |
| 地址: | 401122 重慶市*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 填方 回填 隧道 進(jìn)洞 支護(hù) 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:包括樁基(3)、冠梁(4)、拱架(5)和底支護(hù)(6);所述樁基(3)有多個(gè),多個(gè)所述樁基(3)均勻間隔設(shè)置在隧道兩側(cè);所述冠梁(4)有兩個(gè),且每個(gè)所述冠梁(4)設(shè)置在位于隧道同一側(cè)的全部所述樁基(3)頂面;所述拱架(5)有多個(gè),每個(gè)所述拱架(5)均設(shè)置在隧道兩側(cè)相對設(shè)置的兩個(gè)所述樁基(3)上方,每個(gè)所述拱架(5)的兩端分別與兩個(gè)所述冠梁(4)連接;所述底支護(hù)(6)有多個(gè),所述底支護(hù)(6)設(shè)置在隧道底部,且每個(gè)所述底支護(hù)(6)的兩端分別與隧道兩側(cè)的所述樁基(3)連接;所述拱架(5)、所述樁基(3)以及所述底支護(hù)(6)共同在同一隧道截面的投影內(nèi)形成閉環(huán)支護(hù)進(jìn)洞結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述底支護(hù)(6)為拉梁,所述拉梁的兩端分別與隧道兩側(cè)相對設(shè)置的兩個(gè)所述樁基(3)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述拉梁的兩端各設(shè)有一個(gè)連接件,每個(gè)所述連接件均貼合于相鄰所述樁基(3)并與該所述樁基(3)上的所述冠梁(4)連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:還包括側(cè)支護(hù)(7),所述側(cè)支護(hù)(7)設(shè)于位于隧道同一側(cè)的相鄰兩個(gè)所述樁基(3)之間,并與該所述樁基(3)上的所述冠梁(4)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述底支護(hù)(6)為承重板,所述承重板的兩端分別與隧道兩側(cè)相對設(shè)置的所述側(cè)支護(hù)(7)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:至少一個(gè)所述拱架(5)上設(shè)有多根鋼管(8),多根所述鋼管(8)在拱架(5)上表面間隔設(shè)置,全部所述鋼管(8)均延伸至高填方邊坡內(nèi)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:還包括混凝土層,全部所述拱架(5)以及暴露于高填方邊坡外側(cè)的所述鋼管(8),均被所述混凝土層包覆以形成超前拱蓋(51)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述超前拱蓋(51)與高填方邊坡連接處還設(shè)有反壓回填區(qū)(9),以防止邊坡失穩(wěn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高填方邊坡及深回填土區(qū)隧道暗挖進(jìn)洞支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述樁基(3)為灌注樁。
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