[實用新型]鍍膜設(shè)備、離子源、以及柵極結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921773004.8 | 申請日: | 2019-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN210826329U | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姜友松;宣玲;王懷民 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥晞隆光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 張印鐸;周達 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜 設(shè)備 離子源 以及 柵極 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種鍍膜設(shè)備,其特征在于,包括:
真空容器;
具有基板保持面的基板保持單元;
具有等離子體引出柵極結(jié)構(gòu)的離子源;所述離子源以離子束能夠向著所述基板保持面的至少一部分區(qū)域進行照射的形式被設(shè)置在所述真空容器中;其中,所述柵極結(jié)構(gòu)包括:具有球面結(jié)構(gòu)的主體部、以及位于所述主體部邊側(cè)的平衡部;所述主體部在所述基板保持面上形成第一照射區(qū)域;所述平衡部在所述基板保持面上形成第二照射區(qū)域;至少一部分所述平衡部的第二照射區(qū)域與一部分所述主體部的第二照射區(qū)域相重合;
成膜單元;所述成膜單元以能夠向所述基板保持面的至少一部分區(qū)域供給成膜材料的形式被設(shè)置在真空容器中;所述供給成膜材料的區(qū)域與所述離子源的照射區(qū)域的至少一部分相重合。
2.一種離子源,其特征在于,包括:
離子源殼體;
設(shè)置于所述離子源殼體內(nèi)部的放電室;
蓋設(shè)在放電室上的等離子體引出柵極結(jié)構(gòu);所述柵極結(jié)構(gòu)上分布有用于輸出離子束的離子引出孔;所述柵極結(jié)構(gòu)包括:具有球面結(jié)構(gòu)的主體部、以及位于所述主體部邊側(cè)的平衡部;所述主體部具有的第一照射區(qū)域;所述平衡部具有第二照射區(qū)域;其中,至少一部分所述平衡部的第二照射區(qū)域與一部分所述主體部的第二照射區(qū)域相重合;
設(shè)置于所述離子源殼體內(nèi)部的射頻天線;
用于從所述離子源殼體外部向所述放電室內(nèi)導(dǎo)入氣體的進氣組件。
3.一種離子源等離子體引出柵極結(jié)構(gòu),所述柵極結(jié)構(gòu)上分布有用于輸出離子束的離子引出孔;其特征在于,包括:
具有球面結(jié)構(gòu)的主體部;所述主體部具有的第一照射區(qū)域;
位于所述主體部邊側(cè)的平衡部;所述平衡部具有第二照射區(qū)域;其中,至少一部分所述平衡部的第二照射區(qū)域與一部分所述主體部的第二照射區(qū)域相重合。
4.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二照射區(qū)域與所述第一照射區(qū)域的重合區(qū)域鄰近所述第一照射區(qū)域的邊緣。
5.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述平衡部為圍繞所述主體部設(shè)置的環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述平衡部照射離子方向偏離所述柵極結(jié)構(gòu)中心法線方向的程度小于部分所述主體部的照射離子方向偏離所述柵極結(jié)構(gòu)中心法線方向的程度。
7.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述主體部的照射面積沿其照射方向逐漸增大;所述平衡部的照射面積沿其照射方向保持不變。
8.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述平衡部為具有預(yù)定傾斜角度的錐面結(jié)構(gòu);所述預(yù)定傾斜角度的取值范圍為5度至50度。
9.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述平衡部為曲面結(jié)構(gòu);所述平衡部的曲率半徑大于所述主體部的曲率半徑。
10.如權(quán)利要求9所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述曲面結(jié)構(gòu)為球面。
11.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,在經(jīng)過所述柵極結(jié)構(gòu)的中心的縱截面上,相對于所述主體部的球心,所述平衡部的輪廓所對應(yīng)的圓心角小于所述主體部所對應(yīng)的圓心角。
12.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,在經(jīng)過所述柵極結(jié)構(gòu)中心的縱截面上,所述平衡部的輪廓的長度小于所述主體部的輪廓的長度。
13.如權(quán)利要求3所述的柵極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述平衡部的面積小于所述主體部的面積。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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