[實用新型]吸筆底座有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921771618.2 | 申請日: | 2019-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN210628270U | 公開(公告)日: | 2020-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張賢亮;劉金軍;陳秀龍 | 申請(專利權(quán))人: | 頎中科技(蘇州)有限公司;北京奕斯偉科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 蘇婷婷 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 底座 | ||
1.一種吸筆底座,用于承載真空吸筆,所述真空吸筆包括:主體部,具有真空吸附孔且設(shè)置于所述主體部上的吸附部,以及設(shè)置于所述主體部上且用于控制所述真空吸附孔開閉的開關(guān)按鈕;
其特征在于,所述真空吸筆吸筆底座包括:
支撐臺,可拆卸地固定于所述支撐臺上的承托支架,以及活動設(shè)置于支撐臺上的蓋板;
其中,當(dāng)所述真空吸筆放置于所述吸筆底座時,所述主體部相對固定在所述承載支架上,且所述開關(guān)按鈕避開所述承托支架設(shè)置,所述蓋板抵接所述吸附部以密閉所述真空吸附孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸筆底座,其特征在于,所述主體部包括:形成吸附部的第一主體段,設(shè)置開關(guān)按鈕的第二主體段以及排除第一主體段和第二主體段的第三主體段;
當(dāng)所述真空吸筆放置于所述吸筆底座時,所述第三主體段相對承托在所述承載支架上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸筆底座,其特征在于,所述支撐臺為長條板狀結(jié)構(gòu);
所述支撐臺上具有沿其長邊延伸方向開設(shè)的長條形凹槽,所述蓋板垂直于所述支撐臺,且部分活動設(shè)置于所述凹槽內(nèi);
在所述支撐臺短邊延伸方向上,所述凹槽的延伸寬度不小于所述蓋板的延伸厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸筆底座,其特征在于,在所述支撐臺短邊延伸方向上,所述凹槽的延伸寬度大于所述蓋板的延伸厚度;所述蓋板可沿所述凹槽的短邊延伸方向選擇性移動;
當(dāng)蓋板抵接于凹槽的其中一個長邊邊壁時,所述蓋板密閉所述真空吸附孔;
當(dāng)蓋板遠(yuǎn)離密閉真空吸附孔的凹槽長邊邊壁位置時,所述真空吸筆可選擇地與所述吸筆底座拆分或結(jié)合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的吸筆底座,其特征在于,所述凹槽長邊側(cè)壁上開設(shè)第一通孔,所述第一通孔自凹槽內(nèi)部延伸至支撐臺長邊外壁面,所述蓋板對應(yīng)所述第一通孔位置開設(shè)第二通孔,所述吸筆底座還包括一定位銷,所述定位銷配合第一通孔和第二通孔設(shè)置,以將蓋板活動固定于所述凹槽內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的吸筆底座,其特征在于,所述第一通孔的孔徑等于所述定位銷的外徑,且不大于所述第二通孔的孔徑;
所述蓋板以所述定位銷為導(dǎo)軌,活動設(shè)置于所述凹槽內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的吸筆底座,其特征在于,所述蓋板以所述凹槽的長邊壁為支點,可選擇地自從第一位置翻轉(zhuǎn)至第二位置;
所述第一位置為蓋板垂直于支撐臺;
所述第二位置為蓋板與支撐臺具有夾角α,0°α≤180°。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸筆底座,其特征在于,所述第三主體段包括:第一子主體段和第二子主體段;
所述第一主體段、所述第一子主體段、所述第二主體段以及第二子主體段依次排序連接,或所述第一主體段、所述第二主體段、所述第一子主體段以及第二子主體段依次排序連接;
所述承載支架包括:用于固定所述第一子主體段設(shè)置的第一分支架和固定所述第二子主體段設(shè)置的第二分支架;
所述第一分支架包括:垂直于支撐臺且分別平行于支撐臺長邊邊壁設(shè)置的第一支撐臂和第二支撐臂;所述第一支撐臂、所述第二支撐臂和所述支撐臺之間形成第一承托槽,所述第一子主體段固定于所述第一承托槽內(nèi);
所述第二分支架包括:垂直于支撐臺且分別平行于支撐臺長邊邊壁設(shè)置的第三支撐臂和第四支撐臂;所述第三支撐臂、所述第四支撐臂和所述支撐臺之間形成第二承托槽,所述第二子主體段固定于所述第二承托槽內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的吸筆底座,其特征在于,所述第一分支架還包括:與第一支撐臂、第二支撐臂一體設(shè)置,且連接所述第一支撐臂和所述第二支撐臂的第一支撐面,所述第一支撐面抵接于支撐臺設(shè)置;
所述第一分支架還包括:垂直于所述第一支撐面,且穿過并將所述第一支撐面固定于所述支撐臺上的螺釘;
所述第一支撐臂、所述第二支撐臂以及所述第一支撐面之間形成第一承托槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的吸筆底座,其特征在于,所述第二分支架還包括:與第三支撐臂、第四支撐臂一體設(shè)置,且連接所述第三支撐臂和所述第四支撐臂的第二支撐面,所述第三支撐臂、所述第四支撐臂以及所述第二支撐面之間形成第二承托槽;
所述第二支撐面抵接支撐臺的端部設(shè)置,且所述第二支撐面形成有第二承托槽對立的端面與支撐臺設(shè)置蓋板對立的端面處于同一平面上,所述第二支撐面的厚度不小于所述支撐臺的厚度;
所述第二分支架還包括:平行于所述第二支撐面,且穿過第二支撐面?zhèn)缺诓⑺龅诙蚊婀潭ㄓ谒鲋闻_上的螺釘。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





