[實用新型]一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置

有效

• 申請號: 201921761892.1
• 申請日: 2019-10-21
• 公開（公告）號: CN211199393U
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 劉國利;周毅;李國強
• 申請（專利權）人: 湖南玉豐真空科學技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置，包括真空室體、陰極布氣裝置和真空室內環境布氣裝置，所述陰極布氣裝置包括護罩住陰極體及靶材的陰極外罩，陰極外罩和陰極體絕緣，陰極外罩通過供氣管道與工藝氣體饋入接口連接，在陰極外罩內部設有通氣孔，通氣孔把引入的工藝氣體分成兩路或多路匯合在陰極外罩一端的布氣環內，在布氣環朝向靶面的一側均勻分布有多個噴氣孔，所述真空室內環境布氣裝置包括沿真空室體內壁周邊均布的多個布氣管，在布氣管上分布有布氣孔，每個布氣管單獨通過供氣管道與工藝氣體饋入接口連接。本實用新型的布氣裝置保證了移動陰極在動態工作時工藝氣體供給的穩定性、均勻性。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜領域，具體為一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置。

背景技術

對于較大的、形狀復雜的、非平面的工件表面鍍膜，工件移動、翻轉不容易實現，需要較大的回轉空間，而且回轉力矩較大。由于是曲面形狀，采用傳統的固定式陰極鍍膜設備無法滿足此類工件的鍍膜厚度均勻性的要求，必須采取一種新的陰極布置方式，即工件固定不動，陰極沿工件表面法向、等距、反復移動掃描來完成工件表面鍍膜工作。而移動陰極在較大的真空鍍膜室內沿工件表面做移動鍍膜時，陰極自身的布氣裝置提供的工藝氣體分布會隨著陰極和工件相對移動位置的改變而變化或不穩定，導致工件表面鍍膜的均勻性差及膜層質量不合格，甚至使工件報廢。

發明內容

本實用新型的目的在于為移動式陰極真空鍍膜設備提供一套結構合理，連接可靠的移動陰極布氣管道及設備內部環境布氣管道組成的工藝氣體供氣系統，為設備磁控濺射鍍膜提供精準控制的、均勻分布的工藝氣體氣氛。

本實用新型采用的技術方案如下：一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置，包括真空室體、陰極布氣裝置和真空室內環境布氣裝置，所述陰極布氣裝置包括護罩住陰極體及靶材的陰極外罩，陰極外罩和陰極體絕緣，陰極外罩通過供氣管道與工藝氣體饋入接口連接，在陰極外罩內部設有通氣孔，通氣孔把引入的工藝氣體分成兩路或多路匯合在陰極外罩一端的布氣環內，在布氣環朝向靶面的一側均勻分布有多個噴氣孔，所述真空室內環境布氣裝置包括沿真空室體內壁周邊均布的多個布氣管，在布氣管上分布有布氣孔，每個布氣管單獨通過供氣管道與工藝氣體饋入接口連接。

進一步地，在真空室體外的供氣管道上設有質量流量計和真空截止閥，質量流量計用于控制工藝氣體流量的大小，真空截止閥用于控制工藝氣體的通入及斷開。

進一步地，所述供氣管道為柔性軟管。

進一步地，真空室體為一個密封的圓形或方形空間。

本實用新型的有益效果在于：

（1）陰極布氣裝置可跟隨陰極移動而移動，陰極在真空室內部做三維動態移動工作時，陰極布氣裝置一直跟隨靶體移動，陰極和工件相對移動位置的改變引起陰極工藝氣體分布的變化不大，在真空室體周邊均布的多個布氣管，移動陰極動態工作時始終處在一個可控的、接近或相同于陰極自身布氣氣氛的腔室環境下，從而達到陰極移動到任意位置均能保持穩定的工藝氣氛要求，為磁控濺射鍍膜提供精準控制的、均勻分布的工藝氣體氣氛，保證膜層的均勻性及一致性；

（2）結構緊湊，陰極布氣管道在陰極外罩內部形成，無外接管道，美觀，可靠；

（3）真空室內環境布氣進氣由質量流量計精準控制調整，工藝氣體由多個布氣管的噴氣孔噴出，達到整個設備真空室內部氣氛環境和陰極靶面布氣氣氛基本相同，所以無論陰極移動到真空室體的任意位置，陰極靶面的氣氛在動態工作的情況下都能維持一個穩定的、均勻的氣氛，從而保持了產品鍍膜的均勻性和膜層質量的一致性。

附圖說明

圖1是本實用新型的整體結構示意圖。

圖2是本實用新型的陰極外罩示意圖。

具體實施方式