[實用新型]一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921761892.1
• 申請日: 2019-10-21
• 公開（公告）號: CN211199393U
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉國利;周毅;李國強
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南玉豐真空科學技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置，包括真空室體，其特征在于：還包括陰極布氣裝置和真空室內(nèi)環(huán)境布氣裝置，所述陰極布氣裝置包括護罩住陰極體及靶材的陰極外罩，陰極外罩和陰極體絕緣，陰極外罩通過供氣管道與工藝氣體饋入接口連接，在陰極外罩內(nèi)部設(shè)有通氣孔，通氣孔把引入的工藝氣體分成兩路或多路匯合在陰極外罩一端的布氣環(huán)內(nèi)，在布氣環(huán)朝向靶面的一側(cè)均勻分布有多個噴氣孔，所述真空室內(nèi)環(huán)境布氣裝置包括沿真空室體內(nèi)壁周邊均布的多個布氣管，在布氣管上分布有布氣孔，每個布氣管單獨通過供氣管道與工藝氣體饋入接口連接。

2.如權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置，其特征在于：在真空室體外的供氣管道上設(shè)有質(zhì)量流量計和真空截止閥，質(zhì)量流量計用于控制工藝氣體流量的大小，真空截止閥用于控制工藝氣體的通入及斷開。

3.如權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置，其特征在于：所述供氣管道為柔性軟管。

4.如權(quán)利要求1所述的一種磁控濺射真空鍍膜機工藝氣體布氣裝置，其特征在于：真空室體為一個密封的圓形或方形空間。