[實用新型]用于電子束蒸鍍的鍋盤

有效

• 申請號: 201921686788.0
• 申請日: 2019-10-10
• 公開（公告）號: CN210765485U
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 葉小兵;孔德興
• 申請（專利權）人: 張家港志辰光學技術有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/10
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 許云峰

1.一種用于電子束蒸鍍的鍋盤，包括盤底和側壁部，其特征在于，所述側壁部的上邊緣的外徑大于下邊緣的外徑，所述側壁部從上到下逐漸向靠近所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的縱向中軸線方向傾斜，在所述側壁部的外側面上設置有朝向所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的縱向中軸線凹陷的落料槽，所述盤底的中部設置有向上突起的凸臺，在所述凸臺與所述側壁部中間設置有用于放置成膜料的物料容納槽。

2.根據權利要求1所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，所述落料槽至少為一個并在所述側壁部的外表面上沿其周向方向依次設置，靠近所述側壁部的上邊緣的所述落料槽的槽壁與槽底的距離大于靠近所述側壁部的下邊緣的所述落料槽的槽壁與槽底的距離，所述落料槽的槽壁從上到下向靠近所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的縱向中軸線傾斜。

3.根據權利要求2所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，至少一個所述落料槽的下邊緣沿著所述側壁部的外側壁的下邊緣設置。

4.根據權利要求1所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，所述落料槽為在所述側壁部的外表面上設置的至少一個螺旋狀凹槽，所述落料槽的上槽口位于所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的上邊緣，所述落料槽的下槽口位于所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的下邊緣。

5.根據權利要求1所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，所述凸臺的上表面不超過所述側壁部的上邊緣的高度。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，還包括與所述側壁部的上邊緣連接的物料遮擋部，所述物料遮擋部包括從下到上向靠近所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的縱向中軸線傾斜設置的物料遮擋坡面。

7.根據權利要求6所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，所述物料遮擋部還包括沿著所述物料遮擋坡面的上邊緣設置的物料滾落部，所述物料滾落部從上到下向遠離所述用于電子束蒸鍍的鍋盤的縱向中軸線傾斜設置。

8.根據權利要求7所述的用于電子束蒸鍍的鍋盤，其特征在于，在所述物料遮擋坡面上設置有若干向所述側壁部的上邊緣延伸的物料滾落槽。