[實用新型]一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池擴散爐及生產線

有效

• 申請號: 201921662382.9
• 申請日: 2019-09-30
• 公開（公告）號: CN211079409U
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發明（設計）人: 龔杰洪;范迎新;張威;蘇衛中
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: C30B31/06
• 分類號: C30B31/06;C30B29/06;H01L31/18;H01L21/677
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008
• 代理人: 周長清;徐好

本實用新型公開了一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池擴散爐，包括第一水平傳送裝置，沿所述第一水平傳送裝置的傳送方向依次設有第一上料腔、第一預熱腔、擴散工藝腔、第一冷卻腔及第一下料腔。一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池生產線，包括制絨機、前述的擴散爐、去PSG清洗機、退火爐、平板式PECVD、激光消融機、印刷燒結設備及測試分選機，所述制絨機、擴散爐、去PSG清洗機、退火爐、平板式PECVD、激光消融機、印刷燒結設備及測試分選機依次布置。本實用新型前道工序與后道工序之間可實現無縫對接或只采用簡單的機械手裝卸片即可，可實現連續式生產，具備效率更高，對于硅片的損傷更少，工序間物料傳送結構簡單等多方面的優點。

技術領域

本實用新型涉及太陽能電池制造技術領域，尤其涉及一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池擴散爐及生產線。

背景技術

晶體硅太陽能電池是將太陽能轉變為電能的元件，它是以硅片為襯底材料，經過一系列加工工序后得到的產品，工序包括：清洗制絨、制PN結、去PSG(Phospho SilicateGlass，也即去磷硅玻璃)、退火、背面鍍鈍化膜、表面鍍減反射膜、激光刻槽、絲網印刷、燒結及測試分選，整個過程在一個潔凈的廠房內進行，從第一道工序到最后一道工序形成一條完整的生產線。其中清洗制絨在制絨機內完成，PN結在擴散爐內完成，包括低壓磷擴散和低壓硼擴散，退火在高溫退火爐內完成，背面鍍鈍化膜、表面鍍減反射膜在PECVD(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition，等離子體增強化學氣相沉積法)設備內完成，激光刻槽在激光消融機內完成，絲網印刷由絲網印刷機完成，燒結在高溫燒結爐內完成，測試分選由測試分選機完成。目前所有的生產線設備中，既有管式設備(例如擴散爐、高溫退火爐及用于鍍鈍化膜和減反射膜的管式PECVD)，又有平板式設備(例如制絨機、平板式PECVD、去PSG清洗機、激光消融機、絲網印刷機、高溫燒結爐及測試分選機)，管式設備的進出料方式是將硅片垂直放置于輸料機構(石墨舟、花籃等)上并位于腔體內，然后對硅片進行處理；平板式設備的進出料方式是將硅片水平放置于輸料機構(石墨框等)上并位于腔體內，然后對硅片進行處理；因此，當管式設備完成硅片處理之后，需要與平板式設備進行進出料對接時，需要采用多個翻轉類、轉運類的機構。同理，當平板式設備完成處理后與管式設備進行對接時也存在同樣的問題。由上可知，這就需要大量的翻轉類、轉運類的機構，使得整個流水線的工作十分復雜，成本較高。進一步，在整個生產線上相鄰工藝設備之間的對接位置處還需要預留出較大的空間來完成不同設備間硅片的翻轉和轉運，造成了生產線整體效率低下，并且還存在翻轉類和轉運類的機構在對硅片作業時的損害風險。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種對硅片的損傷少、效率高、所需操作人員少的用于連續式生產的晶體硅太陽能電池擴散爐。

本實用新型進一步提供一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池生產線。

為解決上述技術問題，本實用新型采用以下技術方案：

一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池擴散爐，包括第一水平傳送裝置，沿所述第一水平傳送裝置的傳送方向依次設有第一上料腔、第一預熱腔、擴散工藝腔、第一冷卻腔及第一下料腔。

作為上述技術方案的進一步改進：沿所述第一水平傳送裝置的傳送方向，所述擴散工藝腔依次設有預擴散腔、擴散腔、及推結腔。

作為上述技術方案的進一步改進：還包括載片框，所述載片框上設有多個電池片定位凹槽，多個所述電池片定位凹槽呈矩形陣列式分布。

作為上述技術方案的進一步改進：所述第一水平傳送裝置采用輥輪傳送。

一種用于連續式生產的晶體硅太陽能電池生產線，包括制絨機、去PSG清洗機、退火爐、平板式PECVD、激光消融機、印刷燒結設備及測試分選機，還包括上述的擴散爐，所述制絨機、擴散爐、去PSG清洗機、退火爐、平板式PECVD、激光消融機、印刷燒結設備及測試分選機依次布置。