[實用新型]掩膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921634873.2 | 申請日: | 2019-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN210514931U | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王鄉(xiāng) | 申請(專利權(quán))人: | 珠海邁時光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 葉琦煒 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市香洲區(qū)南屏*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
本實用新型涉及顯示面板曝光技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種掩膜裝置,解決了無需取下掩膜架,則可實現(xiàn)掩膜板的直接更換。本實用新型包括:掩膜架,設(shè)有用于吸附待加工件的真空吸附孔;框架,與所述掩膜架轉(zhuǎn)動連接,使所述掩膜架在所述框架內(nèi)翻轉(zhuǎn)。本實用新型利用掩膜架與框架的轉(zhuǎn)動連接,可使掩膜架直接在框架上實現(xiàn)翻轉(zhuǎn),則在更換待加工件時,無需將掩膜架取下,只要翻轉(zhuǎn)掩膜架,即可在框架上對待加工件進行更換,不僅簡化了待加工件更換的操作流程,同時還可避免對掩膜架造成污染,避免了影響成品質(zhì)量,從而提高了成品合格率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及顯示面板曝光技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種掩膜裝置。
背景技術(shù)
掩膜板也稱為光掩膜板或光罩,是光刻工藝中不可或缺的一個部件。在生產(chǎn)過程中,曝光設(shè)備需要搭載掩膜板,對光線產(chǎn)生規(guī)則遮擋以保留有效曝光區(qū)域的光刻膠,從而在玻璃基板表面形成特定圖案。在此過程中,需要對掩膜裝置的掩膜工位進行變動,在目前的工序中,所用的方式是通過人工將掩膜架從框架上取下并對掩膜板進行重新更換,在此過程中,掩膜裝置可能會與外界接觸,因此容易出現(xiàn)二次污染,使成品的合格率降低,增加生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此,本實用新型提出一種掩膜裝置,無需取下掩膜架,則可實現(xiàn)掩膜板的直接更換。
根據(jù)本實用新型的第一方面實施例的掩膜裝置,包括:
掩膜架,設(shè)有用于吸附待加工件的真空吸附孔;
框架,與所述掩膜架轉(zhuǎn)動連接,使所述掩膜架在所述框架內(nèi)翻轉(zhuǎn)。
根據(jù)本實用新型實施例的掩膜裝置,至少具有如下有益效果:利用掩膜架與框架的轉(zhuǎn)動連接,可使掩膜架直接在框架上實現(xiàn)翻轉(zhuǎn),則在更換待加工件時,無需將掩膜架取下,只要翻轉(zhuǎn)掩膜架,即可在框架上對待加工件進行更換,不僅簡化了待加工件更換的操作流程,同時還可避免對掩膜架造成污染,避免了影響成品質(zhì)量,從而提高了成品合格率。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,所述掩膜架的側(cè)面設(shè)有轉(zhuǎn)軸,所述框架的側(cè)面設(shè)有與所述轉(zhuǎn)軸對應(yīng)的轉(zhuǎn)軸孔,所述轉(zhuǎn)軸插設(shè)在對應(yīng)的所述轉(zhuǎn)軸孔內(nèi),并與所述框架轉(zhuǎn)動連接。利用轉(zhuǎn)軸與框架轉(zhuǎn)動連接,可實現(xiàn)掩膜架的翻轉(zhuǎn),便于調(diào)整掩膜架的位置,實現(xiàn)待加工件的替換。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,所述轉(zhuǎn)軸設(shè)于所述掩膜架的中部。設(shè)于中部,可實現(xiàn)掩膜架以自轉(zhuǎn)的方式在框架內(nèi)上下翻轉(zhuǎn)。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,所述真空吸附孔設(shè)有至少一個以上并設(shè)于所述掩膜架的表面,所述掩膜架的內(nèi)部設(shè)有腔體且與所述真空吸附孔連通,所述腔體與所述轉(zhuǎn)軸連通。采用真空吸附孔對待加工件實現(xiàn)吸附和固定,可避免因采用固定件進行固定而對待加工件造成磨損或損壞的情況。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,還包括真空泵,所述真空泵通過真空管與所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動連接且連通,所述轉(zhuǎn)軸為中空結(jié)構(gòu)并與所述真空吸附孔連通。采用真空泵,可以使真空吸附孔形成真空,對待加工件實現(xiàn)吸附。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,還包括第一驅(qū)動件,所述第一驅(qū)動件與所述轉(zhuǎn)軸驅(qū)動連接,驅(qū)動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。利用第一驅(qū)動件,可實現(xiàn)掩膜架自動翻轉(zhuǎn),提高待加工件更換的效率。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,所述框架上設(shè)有插銷,所述掩膜架上設(shè)有與所述插銷相匹配的銷孔。利用插銷和銷孔可對掩膜架的位置進行限位,避免在掩膜架會在曝光過程中出現(xiàn)轉(zhuǎn)動或晃動,從而保證待加工件的安全和成品質(zhì)量。
根據(jù)本實用新型的一些實施例,所述框架上設(shè)有可限制所述掩膜架轉(zhuǎn)動的限位機構(gòu)。利用限位機構(gòu),可以避免在掩膜架會在曝光過程中出現(xiàn)轉(zhuǎn)動或晃動,從而保證待加工件的安全和成品質(zhì)量,同時還可提高整體的加工效率。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





