[實用新型]掩膜裝置有效
| 申請號： | 201921634873.2 | 申請日： | 2019-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN210514931U | 公開（公告）日： | 2020-05-12 |
| 發明（設計）人： | 王鄉 | 申請（專利權）人： | 珠海邁時光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 葉琦煒 |
| 地址： | 519000 廣東省珠海市香洲區南屏*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 裝置 | ||
1.一種掩膜裝置，其特征在于，包括：
掩膜架，設有用于吸附待加工件的真空吸附孔；
框架，與所述掩膜架轉動連接，使所述掩膜架在所述框架內翻轉。
2.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于：所述掩膜架的側面設有轉軸，所述框架的側面設有與所述轉軸對應的轉軸孔，所述轉軸插設在對應的所述轉軸孔內，并與所述框架轉動連接。
3.根據權利要求2所述的掩膜裝置，其特征在于：所述轉軸設于所述掩膜架的中部。
4.根據權利要求2所述的掩膜裝置，其特征在于：所述真空吸附孔設有至少一個以上并設于所述掩膜架的表面，所述掩膜架的內部設有腔體且與所述真空吸附孔連通，所述腔體與所述轉軸連通。
5.根據權利要求4所述的掩膜裝置，其特征在于：還包括真空泵，所述真空泵通過真空管與所述轉軸轉動連接且連通，所述轉軸為中空結構并與所述真空吸附孔連通。
6.根據權利要求2所述的掩膜裝置，其特征在于：還包括第一驅動件，所述第一驅動件與所述轉軸驅動連接，驅動所述轉軸轉動。
7.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于：所述框架上設有插銷，所述掩膜架上設有與所述插銷相匹配的銷孔。
8.根據權利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于：所述框架上設有可限制所述掩膜架轉動的限位機構。
9.根據權利要求8所述的掩膜裝置，其特征在于：所述限位機構包括第二驅動件以及限位桿，所述掩膜架設有與所述限位桿相匹配的限位槽，所述第二驅動件與所述限位桿驅動連接，使所述限位桿插入或移出所述限位槽內。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
