[實用新型]一種金粉制備裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921620538.7
• 申請日: 2019-09-26
• 公開（公告）號: CN211161937U
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張超;李中璽;倪迎瑞;張圣杰;薛振宇;孫浩
• 申請（專利權(quán)）人: 西安匯創(chuàng)貴金屬新材料研究院有限公司;陜西黃金集團西安秦金有限責(zé)任公司
• 主分類號: B22F9/24
• 分類號: B22F9/24;B22F9/08
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 黨娟娟;郭永麗

1.一種金粉制備裝置，其特征在于，包括：至少1個金離子溶液儲備器，至少1個霧化裝置，至少1個還原液液體膜引流裝置，至少1個擋板引流裝置，至少1個超聲分散螺旋渦流式引流裝置和收集器；

所述溶液儲備器的底部與所述霧化裝置聯(lián)通；

所述霧化裝置將來自于所述溶液儲備器的金離子溶液形成金離子霧化溶液后經(jīng)霧化噴嘴噴射至所述擋板引流裝置上；

所述還原液液體膜引流裝置的還原液出口設(shè)置在所述擋板引流裝置的上端，還原液按照設(shè)定的流量從所述擋板引流裝置上端均勻流下覆蓋在所述擋板引流裝置上形成還原液膜，所述還原液與所述金離子霧化溶液在所述擋板引流裝置上進行反應(yīng)形成金粉體和剩余溶液；

所述擋板引流裝置的排液管設(shè)置在所述超聲分散螺旋渦流式引流裝置的上方，所述金粉體和所述剩余溶液流入所述超聲分散螺旋渦流式引流裝置內(nèi)；

所述超聲分散螺旋渦流式引流裝置的螺旋式排液通道從上之下貫穿超聲儲液槽，所述螺旋式排液通道的出口設(shè)置在所述收集器的上端。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述擋板引流裝置包括擋液板和所述排液管；

所述擋液板呈直角三角形狀，所述直角三角形的第一個直角邊為所述擋液板的上部，所述直角三角形的斜邊和第二個直角邊分別與第一個直角邊相接觸，且所述斜邊由上至下收縮、卷曲直至與所述第二個直角邊相接觸形成閉合管狀口，所述閉合管狀口為所述排液管；

所述擋液板的上端與所述霧化噴嘴之間的垂直距離大于所述擋液板的下端與所述霧化噴嘴之間的垂直距離。

3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述霧化噴嘴的噴射角度介于80°～115°，所述霧化噴嘴的壓力介于3～15N，所述霧化噴嘴與所述擋液板之間的距離介于20cm～30cm。

4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述超聲分散螺旋渦流式引流裝置包括進液槽、所述螺旋式排液通道和所述超聲儲液槽；

所述進液槽的下端設(shè)置所述螺旋式排液通道的進口，所述螺旋式排液通道均設(shè)置在所述超聲儲液槽內(nèi)，且所述螺旋式排液通道的出口延伸出所述超聲儲液槽的底端；其中，所述螺旋式排液通道與水平之間的夾角介于5°～45°，所述超聲儲液槽內(nèi)的超聲頻率大于40kHZ。

5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述溶液儲備器與所述霧化裝置的連接處還設(shè)置有調(diào)節(jié)開關(guān)，所述調(diào)節(jié)開關(guān)用于控制進入所述霧化裝置的所述金離子溶液的流量。

6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括低溫噴霧干燥設(shè)備；

所述收集器的側(cè)壁上設(shè)置一個在豎直方向移動的出水口，所述出水口的高度與設(shè)置在所述收集器內(nèi)的漂浮球的高度通過感應(yīng)器連接；

所述低溫噴霧干燥設(shè)備的進口設(shè)置在所述收集器的底部，當(dāng)確定所述收集器內(nèi)儲液量達(dá)到要求時，設(shè)置在所述低溫噴霧干燥設(shè)備的進口處的蠕動泵將所述收集器內(nèi)的液體轉(zhuǎn)移至所述低溫噴霧干燥設(shè)備內(nèi)。