[實用新型]一種晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921594983.0 | 申請日: | 2019-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN210325718U | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳利鋒;陳素榮;何婷婷;王福亮;何虎;趙芹 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇芯夢半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶圓化鍍 設(shè)備 清洗 裝置 | ||
本實用新型揭示了一種晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置,包括槽體和設(shè)置在槽體底部的溢流機構(gòu),溢流機構(gòu)包括豎直設(shè)置的進水管和水平設(shè)置在進水管頂端的分布頭,進水管的底端內(nèi)壁上凸起設(shè)有臺面,分布頭包括圓弧板、連接座、導(dǎo)流板、分流柱、側(cè)擋板,圓弧板上沿周向間隔均勻設(shè)有多排溢流孔,多排溢流孔孔徑由圓弧板頂部向兩側(cè)底部逐漸加大,分流柱與連接座固定連接且貫穿分布空間設(shè)置,分流柱底面為圓弧面,圓弧面軸線垂直于圓弧板和進水管的軸線。本實用新型進水管從分布頭中部進水,進水管底端管徑小于頂端管徑,分布空間中間大兩頭小的空間構(gòu)造,圓弧板上溢流孔的孔徑變化設(shè)計,以及分流柱結(jié)構(gòu),使得各個溢流孔噴出的水流均勻,清洗效果好。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置。
背景技術(shù)
晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中常見的裝置,用于對晶圓表面附著的微粒雜質(zhì)和殘留的化學(xué)藥液進行去除,使晶圓表面潔凈。
如圖1至2所示,現(xiàn)有的晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置包括槽體1和溢流管2,溢流管2通常為兩根,兩根溢流管2相互平行分別設(shè)置在槽體1底部兩側(cè),目前的溢流管2為一端開口一端封閉的圓筒狀,開口端伸出槽體1外部用于進水,位于槽體1內(nèi)的溢流管2上設(shè)有用于出水的溢流孔,溢流孔均勻分布且孔徑一樣。
現(xiàn)有的晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置缺點在于,溢流孔噴出的水流不均勻(越靠近開口端的溢流孔水流流量越大,越遠離開口端的溢流孔水流流量越小),清洗效果差。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置。
為實現(xiàn)上述實用新型目的,本實用新型采用如下技術(shù)方案:
一種晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置,包括槽體和設(shè)置在槽體底部的溢流機構(gòu),所述溢流機構(gòu)包括豎直設(shè)置的進水管和水平設(shè)置在所述進水管頂端的分布頭;
所述進水管的底端內(nèi)壁上凸起設(shè)有臺面,以使所述進水管用于進水的底端管徑小于用于出水的頂端管徑;
所述分布頭包括圓弧板、連接座、導(dǎo)流板、分流柱、側(cè)擋板,所述連接座套接設(shè)置在所述進水管頂端,所述導(dǎo)流板為兩塊,兩塊所述導(dǎo)流板關(guān)于進水管、連接座的軸線對稱設(shè)置,所述圓弧板設(shè)置在頂部,以與導(dǎo)流板、連接座、側(cè)擋板合圍形成分布空間,所述導(dǎo)流板為等腰梯形狀,所述導(dǎo)流板的寬邊一側(cè)與所述連接座固定連接,所述導(dǎo)流板的窄邊一側(cè)向斜上方延伸設(shè)置;
所述圓弧板上沿周向間隔均勻設(shè)有多排溢流孔,多排所述溢流孔的孔徑由圓弧板頂部向兩側(cè)底部逐漸加大;
所述分流柱與所述連接座固定連接且貫穿分布空間設(shè)置,所述分流柱的底面為圓弧面,所述圓弧面的軸線垂直于所述圓弧板和進水管的軸線。
作為本實用新型進一步改進的技術(shù)方案,所述溢流機構(gòu)設(shè)置于所述槽體底部中間位置。
作為本實用新型進一步改進的技術(shù)方案,所述溢流機構(gòu)采用聚偏氟乙烯材料制作。
相對于現(xiàn)有技術(shù),本實用新型的技術(shù)效果在于:
本實用新型的進水管從分布頭中部進水且分布空間中間大兩頭小的空間構(gòu)造,有利于平衡分布空間水平向各個位置的水壓,進水管底端管徑小于頂端管徑,有利于減緩水流進入分布頭中的流速,圓弧板上溢流孔的孔徑變化設(shè)計,使得周向存在水壓差的情況下各個溢流孔的水流流量一致性更強,以及分流柱結(jié)構(gòu)對水流流向進行改變,向分流柱兩側(cè)進行分流而不是直接沖擊在正對進水管的圓弧板上,使得各個溢流孔噴出的水流均勻,清洗效果好。
附圖說明
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置的主視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是現(xiàn)有技術(shù)中晶圓化鍍設(shè)備快排清洗槽裝置的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖;
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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