[實(shí)用新型]一種晶圓化鍍?cè)O(shè)備快排清洗槽裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921594983.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210325718U | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳利鋒;陳素榮;何婷婷;王福亮;何虎;趙芹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇芯夢(mèng)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶圓化鍍 設(shè)備 清洗 裝置 | ||
1.一種晶圓化鍍?cè)O(shè)備快排清洗槽裝置,其特征在于,包括槽體和設(shè)置在槽體底部的溢流機(jī)構(gòu),所述溢流機(jī)構(gòu)包括豎直設(shè)置的進(jìn)水管和水平設(shè)置在所述進(jìn)水管頂端的分布頭;
所述進(jìn)水管的底端內(nèi)壁上凸起設(shè)有臺(tái)面,以使所述進(jìn)水管用于進(jìn)水的底端管徑小于用于出水的頂端管徑;
所述分布頭包括圓弧板、連接座、導(dǎo)流板、分流柱、側(cè)擋板,所述連接座套接設(shè)置在所述進(jìn)水管頂端,所述導(dǎo)流板為兩塊,兩塊所述導(dǎo)流板關(guān)于進(jìn)水管、連接座的軸線對(duì)稱設(shè)置,所述圓弧板設(shè)置在頂部,以與導(dǎo)流板、連接座、側(cè)擋板合圍形成分布空間,所述導(dǎo)流板為等腰梯形狀,所述導(dǎo)流板的寬邊一側(cè)與所述連接座固定連接,所述導(dǎo)流板的窄邊一側(cè)向斜上方延伸設(shè)置;
所述圓弧板上沿周向間隔均勻設(shè)有多排溢流孔,多排所述溢流孔的孔徑由圓弧板頂部向兩側(cè)底部逐漸加大;
所述分流柱與所述連接座固定連接且貫穿分布空間設(shè)置,所述分流柱的底面為圓弧面,所述圓弧面的軸線垂直于所述圓弧板和進(jìn)水管的軸線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓化鍍?cè)O(shè)備快排清洗槽裝置,其特征在于,所述溢流機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述槽體底部中間位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓化鍍?cè)O(shè)備快排清洗槽裝置,其特征在于,所述溢流機(jī)構(gòu)采用聚偏氟乙烯材料制作。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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