[實用新型]一種真空熔煉爐用高純石英坩堝

有效

• 申請號: 201921522228.1
• 申請日: 2019-09-09
• 公開（公告）號: CN210833027U
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 鐘茂禮;應宗波;周方;盧建豐
• 申請（專利權）人: 紫金礦業集團黃金冶煉有限公司
• 主分類號: F27B14/10
• 分類號: F27B14/10;F27B14/18
• 代理公司: 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204
• 代理人: 李欽海

1.一種真空熔煉爐用高純石英坩堝,包括石英坩堝本體和在其上部的下料嘴，兩者鑄成一體；其特征是：所述石英坩堝本體的壁厚為15mm、底厚20mm、內徑70mm、高度190mm，從坩堝本體的中心至下料嘴末端的距離為100～150mm，以滿足坩堝與鑄模距離較遠的澆鑄要求；所述下料嘴的末端與坩堝本體上沿之間的距離為10mm，下料嘴的起始端與坩堝本體上沿之間的距離為15.72mm；下料嘴末端外寬20mm，內寬10mm，該下料嘴的兩個內側邊之間形成的錐角為6°，兩個內側邊與石英坩堝本體外壁之間的過渡圓角半徑為10mm。

2.如權利要求1所述真空熔煉爐用高純石英坩堝，其特征是：所述坩堝中心至下料嘴末端的距離為130mm。