[實用新型]一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921499505.1 | 申請日： | 2019-09-10 |
| 公開（公告）號： | CN210736922U | 公開（公告）日： | 2020-06-12 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉世軍;丁玉生;薄彪;徐蠡華;黃艮軍;蔣榮瑩 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇興達鋼簾線股份有限公司 |
| 主分類號： | C25D3/38 | 分類號： | C25D3/38;C25D7/06;C25D17/02;C25D17/12;C25D21/00 |
| 代理公司： | 南京科知維創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 32270 | 代理人： | 許益民 |
| 地址： | 225721 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 降低 焦銅鍍液銅 離子 裝置 | ||
1.一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，包括鍍槽，所述鍍槽共14節(jié)，每一節(jié)鍍槽中均裝有焦銅鍍液，每節(jié)鍍槽中均安裝有陽極架，所述陽極架的邊緣均連接電纜線接口，其特征在于：14節(jié)鍍槽中包括2個調(diào)節(jié)槽，2個調(diào)節(jié)槽中的所述陽極架均為不溶性陽極架，除2個調(diào)節(jié)槽之外的12節(jié)鍍槽中的陽極架均為可溶性陽極架，所述陽極架浸入所述焦銅鍍液中，2個調(diào)節(jié)槽內(nèi)不添加銅粒，除2個調(diào)節(jié)槽外的12個鍍槽內(nèi)均添加銅粒。
2.如權(quán)利要求1所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：所述不溶性陽極架為鈦合金陽極架。
3.如權(quán)利要求1所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：所述可溶性陽極架為不銹鋼陽極架。
4.如權(quán)利要求1所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：所述陽極架為矩形的網(wǎng)狀陽極架，所述陽極架的四個角卡固在所述鍍槽內(nèi)，所述陽極架與水平面相平行。
5.如權(quán)利要求4所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：每個鍍槽中均并排安裝有兩個陽極架，兩個陽極架中間設有絕緣隔離塊，每個陽極架上均安裝有電纜線接口。
6.如權(quán)利要求5所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：每個鍍槽中的兩個陽極架通過所述電纜線接口分別通不同大小的電流。
7.如權(quán)利要求1所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：14節(jié)鍍槽之間相互獨立，14節(jié)鍍槽下方設有底槽，所述底槽與所述14節(jié)鍍槽的底部均相通，即所述14節(jié)鍍槽的底部相互流通。
8.如權(quán)利要求7所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：所述底槽中安裝有提升泵，所述提升泵用以將底槽中的鍍液提升到所述鍍槽中。
9.如權(quán)利要求1所述的一種降低焦銅鍍液銅離子的裝置，其特征在于：待鍍銅的鋼絲浸入所述焦銅鍍液下5毫米深，所述陽極架位于所述鋼絲下方10-15毫米深處。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇興達鋼簾線股份有限公司，未經(jīng)江蘇興達鋼簾線股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201921499505.1/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：線纜連接器
- 下一篇：一種基于MODBUS通訊自動定點停靠軌道車設備
