[實用新型]屏蔽膜

有效

• 申請號: 201921473959.1
• 申請日: 2019-09-05
• 公開（公告）號: CN210840537U
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 劉麟躍;周小紅;基亮亮
• 申請（專利權）人: 蘇州維業達觸控科技有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;C25D1/10
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 楊波

本實用新型公開了一種屏蔽膜，包括由微電鑄制備形成包括多條金屬線的屏蔽區，以及由微電鑄制備形成、連接于所述屏蔽區至少一側、用以降低所述屏蔽區整體的厚度差異的緩沖區。通過微電鑄制備屏蔽區以及在屏蔽區至少一側制備緩沖區，使得屏蔽區的整體的厚度差異較小，從而使屏蔽區的厚度比較均勻，進而增強了屏蔽膜的電磁屏蔽效果。

技術領域

本實用新型涉及屏蔽膜技術領域，特別是涉及一種屏蔽膜。

背景技術

隨著液晶，CRT，PDP，EL等顯示裝置的發展，被廣泛的應用在個人電腦、手機、公共信息展示，用于信息的展示和交互。這些電子顯示設備也帶來越來越多的電磁干擾問題。

近年來，金屬網格薄膜被廣泛的用于電磁信號的屏蔽上面。常用的制作方法有濺射法、蝕刻法和銀絡鹽擴散法。這些方法工藝復雜，生產效率低，且普遍透過率不高。

目前UV壓印與微電鑄方法制作金屬網格薄膜，其生產工藝簡單，成熟，生產效率高，且金屬網格薄膜鏤空，透過率高。但現有微電鑄技術由于其邊緣效應，金屬的生長速率不同導致在厚度上差異較大，造成電磁屏蔽能力的不均勻。

前面的敘述在于提供一般的背景信息，并不一定構成現有技術。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種降低屏蔽區厚度差異的屏蔽膜。

本實用新型提供一種屏蔽膜，包括由微電鑄制備形成包括多條金屬線的屏蔽區，以及由微電鑄制備形成、連接于所述屏蔽區至少一側、用以降低所述屏蔽區整體的厚度差異的緩沖區。

在其中一實施例中，所述緩沖區的寬度大于所述屏蔽區中金屬線的寬度。

在其中一實施例中，所述屏蔽區中金屬線的寬度為3-10μm，所述緩沖區的寬度為0.5-2cm。

在其中一實施例中，所述屏蔽區的厚度小于所述緩沖區的厚度，所述屏蔽區與所述緩沖區的厚度差異小于或等于3μm，所述緩沖區的厚度為5-20μm，所述屏蔽區的厚度2-17μm。

在其中一實施例中，所述屏蔽區設有第一導電層、設置在所述第一導電層上的第二導電層，所述緩沖區設有第一金屬層、設置在所述第一金屬層上的第二金屬層，所述第一導電層連接所述第一金屬層，所述第二導電層連接所述第二金屬層。

在其中一實施例中，所述第二導電層的厚度大于所述第一導電層的厚度，所述第二金屬層的厚度大于所述第一金屬層的厚度。

在其中一實施例中，所述第一導電層與所述第一金屬層的材料相同，所述第二導電層與所述第二金屬層的材料相同，所述第一導電層與所述第一金屬層的材料為銀或銅或金或石墨烯或其它導電材料的漿料，所述第二導電層與所述第二金屬層的材料為銀或銅或金或鎳或鐵鎳合金或其它金屬材料。

在其中一實施例中，所述第一導電層與所述第二導電層的接觸面為平面或非平面，所述第一金屬層與所述第二金屬層的接觸面為平面或非平面。

在其中一實施例中，所述屏蔽區四周均設置所述緩沖區。

本實用新型提供的屏蔽膜，通過微電鑄制備屏蔽區以及在屏蔽區至少一側制備緩沖區，使得屏蔽區的整體的厚度差異較小，從而使屏蔽區的厚度比較均勻，進而增強了屏蔽膜的電磁屏蔽效果。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例屏蔽膜的結構示意圖；

圖2為圖1另一視角的結構示意圖；

圖3為本實用新型實施例屏蔽膜的制作方法的步驟流程圖；

圖4為圖3中步驟S1的具體步驟流程圖；

圖5為圖4中步驟S13的具體步驟流程圖；