[實用新型]氣液兩相供給回收裝置及浸沒式光刻設備

有效

• 申請號: 201921424914.5
• 申請日: 2019-08-28
• 公開（公告）號: CN210294802U
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 朱科峰;趙丹平;劉劍;郭孔斌;張楠
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本實用新型提供了一種氣液兩相供給回收裝置及浸沒式光刻設備，所述氣液兩相供給回收裝置設置于所述浸沒式光刻設備的主基板上以對所述浸沒式光刻設備進行浸沒液的供給和回收，其包括隔熱外殼及設置于所述隔熱外殼內的分流塊主體，所述隔熱外殼的側壁中設置有溫控流體通道，所述溫控流體通道呈螺旋狀環繞所述分流塊主體，并且，所述溫控流體通道可以流通與所述主基板溫度相等的流體，通過所述溫控流體通道中的流體與所述分流塊主體發生熱交換的方式來保證主基板的溫度不產生變化，降低了分流塊主體的溫度對主基板的影響，減小了主基板的熱形變。

技術領域

本實用新型涉及半導體制造技術領域，尤其是一種氣液兩相供給回收裝置及浸沒式光刻設備。

背景技術

光刻設備是以光學光刻為基礎，利用光學系統把掩膜板上的圖形精確地投影曝光到涂過光刻膠的基底(如：硅片)上。浸沒式光刻設備是指在投影物鏡與基底之間充滿浸沒液(水或更高折射的浸沒液體)以取代傳統干式光刻技術中對應的空氣，在工件臺帶動基底作高速的掃描、步進動作時，浸沒式光刻設備會根據工件臺的運動狀態，在投影物鏡的視場范圍，提供一個穩定的浸沒液流場，同時保證浸沒液流場與外界的密封，保證浸沒液不泄漏，由于水的折射率比空氣大，這就使得投影物鏡的透鏡組數值孔徑增大，進而可獲得更加小的特征線寬。

現有浸沒式光刻設備的投影物鏡通常貫穿固定在主基板上，由于浸沒液是循環利用的，所以在主基板上還需要設置分流塊，用于回收浸沒液，并將浸沒液中的液體和氣泡分離后再重新供給至基底上，但是浸沒式光刻設備工作環境的溫度通常是295.15K左右，主基板上的溫度也是295.15K左右，而分流塊表面的溫度在293.15K左右，且分流塊與主基板通常是通過法蘭剛性連接，熱傳遞影響較大，受熱交換的影響，主基板與分流塊之間存在的溫差會導致主基板產生變形，進而導致浸沒式光刻設備的調焦調平、對準、測量和曝光均不穩定，從而影響光刻的精度。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種氣液兩相供給回收裝置及浸沒式光刻設備，以解決現有的主基板和分流塊之間的溫差導致主基板變形的問題。

為了達到上述目的，本實用新型提供了一種氣液兩相供給回收裝置，設置于一浸沒式光刻設備的主基板上以對所述浸沒式光刻設備進行浸沒液的供給和回收，包括隔熱外殼及設置于所述隔熱外殼內的分流塊主體，所述隔熱外殼的側壁中設置有環繞所述分流塊主體的溫控流體通道。

可選的，所述溫控流體通道呈螺旋狀環繞所述分流塊主體。

可選的，所述隔熱外殼的一段側壁向外凸出以構成支撐部，所述隔熱外殼的一端穿過所述主基板，所述支撐部置于所述主基板上以與所述主基板連接。

可選的，所述隔熱外殼的側壁中設置有環形腔，所述溫控流體通道位于所述環形腔中，所述環形腔的兩端分別設置氣壓勻化單元及氣壓出風口，所述氣壓勻化單元用于向所述環形腔中通入與所述主基板溫度相同的勻壓氣體，所述勻壓氣體流經所述環形腔后從所述氣壓出風口釋放。

可選的，所述支撐部與所述主基板之間還設置有一緩沖結構，以使所述支撐部與所述主基板柔性連接。

可選的，所述緩沖結構的阻尼率大于0.1。

可選的，所述緩沖結構包括彈簧、液壓阻尼器、橡膠墊或空氣阻尼器。

可選的，所述分流塊主體包括分流腔，所述分流腔兩端均設置有第一氣液接口和第二氣液接口，所述第一氣液接口和所述第二氣液接口伸出所述隔熱外殼以執行浸沒液的供給和回收。

本實用新型還提供了一種浸沒式光刻設備，包括：

照明組件，用于提供曝光光束；

掩膜組件，用于承載掩膜板；

投影物鏡，貫穿固定于一主基板上，所述主基板上還設置有所述氣液兩相供給回收裝置；