[實用新型]氣液兩相供給回收裝置及浸沒式光刻設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921424914.5
• 申請日: 2019-08-28
• 公開（公告）號: CN210294802U
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發(fā)明（設計）人: 朱科峰;趙丹平;劉劍;郭孔斌;張楠
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種氣液兩相供給回收裝置，設置于一浸沒式光刻設備的主基板上以對所述浸沒式光刻設備進行浸沒液的供給和回收，其特征在于，包括隔熱外殼及設置于所述隔熱外殼內的分流塊主體，所述隔熱外殼的側壁中設置有環(huán)繞所述分流塊主體的溫控流體通道。

2.如權利要求1所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述溫控流體通道呈螺旋狀環(huán)繞所述分流塊主體。

3.如權利要求1所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述隔熱外殼的一段側壁向外凸出以構成支撐部，所述隔熱外殼的一端穿過所述主基板，所述支撐部置于所述主基板上以與所述主基板連接。

4.如權利要求3所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述隔熱外殼的側壁中設置有環(huán)形腔，所述溫控流體通道位于所述環(huán)形腔中，所述環(huán)形腔的兩端分別設置氣壓勻化單元及氣壓出風口，所述氣壓勻化單元用于向所述環(huán)形腔中通入與所述主基板溫度相同的勻壓氣體，所述勻壓氣體流經所述環(huán)形腔后從所述氣壓出風口釋放。

5.如權利要求3或4所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述支撐部與所述主基板之間還設置有一緩沖結構，以使所述支撐部與所述主基板柔性連接。

6.如權利要求5所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述緩沖結構的阻尼率大于0.1。

7.如權利要求5所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述緩沖結構包括彈簧、液壓阻尼器、橡膠墊或空氣阻尼器。

8.如權利要求1或2所述的氣液兩相供給回收裝置，其特征在于，所述分流塊主體包括分流腔，所述分流腔兩端均設置有第一氣液接口和第二氣液接口，所述第一氣液接口和所述第二氣液接口伸出所述隔熱外殼以執(zhí)行浸沒液的供給和回收。

9.一種浸沒式光刻設備，其特征在于，包括：

照明組件，用于提供曝光光束；

掩膜組件，用于承載掩膜板；

投影物鏡，貫穿固定于一主基板上，所述主基板上還設置有如權利要求1-8中任一項所述的氣液兩相供給回收裝置；

浸沒液流場維持組件，用于提供浸沒液；

工件臺組件，用于承載基底，所述浸沒液流場維持組件在所述投影物鏡和所述工件臺組件之間填充浸沒液以形成浸沒液流場。

10.如權利要求9所述的浸沒式光刻設備，其特征在于，所述主基板上設置有多個所述氣液兩相供給回收裝置，多個所述氣液兩相供給回收裝置沿所述投影物鏡周向設置。

11.如權利要求9所述的浸沒式光刻設備，其特征在于，所述主基板底部設置有水冷循環(huán)管道，所述氣液兩相供給回收裝置的溫控流體通道與所述水冷循環(huán)管道連通。