[實用新型]一種新型批處理清洗機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921419610.X
• 申請日: 2019-08-28
• 公開（公告）號: CN210349786U
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李君;顧立勛;蘇界
• 申請（專利權(quán)）人: 長江存儲科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 李洋;張穎玲

本實用新型公開了一種批處理清洗機，包括制程槽，第一進酸管路和第二進酸管路，其特征在于，所述第一進酸管路和第二進酸管路平行地設(shè)置在所述制程槽的底部且分別與所述制程槽的底部平行，以使得進入所述制程槽的清洗液相向平行地流動。本實用新型的批處理清洗機通過從兩側(cè)供酸可以減少晶圓與晶圓之間的濃度梯度和溫度梯度，能夠增加制程槽內(nèi)的清洗液的均勻性和穩(wěn)定性，因此提高晶圓的良率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其是涉及一種新型批處理清洗機。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體制程中，最頻繁的步驟之一是晶圓的清洗，其通常是將帶有二氧化硅或氮化硅的晶圓置于批處理清洗機(WET Batch)中對晶圓進行濕法清洗，其中在清洗機的制程槽中常常裝盛有酸性溶液，尤其是磷酸，其被廣泛地應(yīng)用于去除附著于晶圓表面上的有機化合物、金屬雜質(zhì)或微粒等污染物。這些污染物對后續(xù)制程影響非常大，例如，金屬雜質(zhì)的污染會造成p-n漏電、縮短少數(shù)載流子的壽命、降低柵極氧化層的崩潰電壓。微粒的附著則會影響微影工藝圖案轉(zhuǎn)移的真實性，甚至造成電路結(jié)構(gòu)短路。因此，清洗對于晶圓制程相當(dāng)重要。

圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中批處理清洗機的示意圖，其中，位于批處理清洗機的制程槽的底部一側(cè)設(shè)置有一個酸液進口，并且在該進口處，酸的管路被布置成分為兩路，隨后，該管路延伸至制程槽的底部另一側(cè)。由于晶圓在制程槽內(nèi)的通常布置為垂直于水平面擱置，因此，這種進酸方式無法滿足晶圓的清洗的均勻性，此外在批處理制程槽中一次性處理多達50片晶圓，這對制程槽內(nèi)所有晶圓批處理清洗的均勻性提出了挑戰(zhàn)。

因此，有必要提出一種新型的批處理清洗機來解決上述問題。

實用新型內(nèi)容

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型提出了一種批處理清洗機，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中批處理清洗機對晶圓的清洗的均勻性不佳的問題。

為達到上述目的，本實用新型提供了一種批處理清洗機，所述批處理清洗機包括，制程槽、第一進酸管路和第二進酸管路，其特征在于，所述第一進酸管路和第二進酸管路平行地設(shè)置在所述制程槽的底部且分別與所述制程槽的底部平行，以使得進入所述制程槽的液體相向流動。

根據(jù)一個實施方式，所述第一進酸管路和第二進酸管路的表面包含多個噴液口。

根據(jù)一個實施方式，所述第一進酸管路和第二進酸管路分別進一步設(shè)置有流量計以用于監(jiān)控所述第一進酸管路和第二進酸管路的流量。

根據(jù)一個實施方式，所述第一進酸管路和第二進酸管路分別進一步設(shè)置有閥門，以用于控制所述第一進酸管路和第二進酸管路的流量。

根據(jù)一個實施方式，所述批處理清洗機進一步設(shè)置有一個或多個多個排液管和/或排液口，以用于排空所述制程槽的清洗液。

根據(jù)一個實施方式，所述批處理清洗機進一步設(shè)置有液位計和/液位傳感器，以用于監(jiān)控所述制程槽中清洗液的液位。

根據(jù)一個實施方式，所述批處理清洗機進一步設(shè)置有一個或多個溢流口。

本實用新型的批處理清洗機通過位于制程槽的底部的對稱設(shè)置的進酸管路，通過從兩側(cè)供酸可以減少晶圓與晶圓之間的濃度梯度和溫度梯度，因此能夠增加制程槽內(nèi)的清洗液的均勻性和穩(wěn)定性，縮小降低晶圓之間的蝕刻率的差，從而提高晶圓表面的清洗效果，并提高了晶圓的一致性，提高晶圓的良率。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)批處理清洗機的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型批處理清洗機的結(jié)構(gòu)示意圖；

具體實施方式